[發明專利]一種拋光設備

在審

• 申請號: 201911416208.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN113118938A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 楊兆明;顏凱;中原司
• 申請（專利權）人: 浙江芯暉裝備技術有限公司
• 主分類號: B24B27/00
• 分類號: B24B27/00;B24B29/02;B24B53/007;B24B41/00;B24B55/06;B08B3/04
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種拋光設備，其特征在于，包括：

安裝臺(1)，其上沿第一水平方向排列設置有多個獨立的拋光區(11)；

傳送機構(2)，沿所述第一水平方向可移動地設置在所述安裝臺(1)上，以傳送晶圓(100)；

拋光機構(3)，每個所述拋光區(11)內均設置有所述拋光機構(3)，所述拋光機構(3)包括拋光盤(31)、拋光頭(32)和拋光頭清洗器(33)，所述拋光盤(31)和所述拋光頭(32)均可轉動地設置在所述安裝臺(1)上，所述拋光頭(32)沿第二水平方向可移動且沿豎直方向可升降地設置在所述安裝臺(1)上，所述拋光頭(32)能夠吸附所述傳送機構(2)上的所述晶圓(100)，并將所述晶圓(100)移動至所述拋光盤(31)的上方，所述拋光盤(31)能夠與所述拋光頭(32)相配合對所述晶圓(100)進行拋光，所述拋光頭清洗器(33)固定設置在所述安裝臺(1)上，所述拋光頭(32)沿所述第二水平方向移動時能夠由所述拋光頭清洗器(33)的上方經過，以使所述拋光頭清洗器(33)能夠清洗所述拋光頭(32)。

2.根據權利要求1所述的拋光設備，其特征在于，所述拋光機構(3)還包括拋光盤清洗器(34)，所述拋光盤清洗器(34)可轉動地設置在所述安裝臺(1)上且位于所述拋光盤(31)的一側，以清洗所述拋光盤(31)。

3.根據權利要求1所述的拋光設備，其特征在于，多個所述拋光區(11)的拋光精度沿所述第一水平方向依次增高。

4.根據權利要求3所述的拋光設備，其特征在于，所述拋光區(11)的數量為三個，三個所述拋光區(11)依次為粗拋區、中拋區和精拋區。

5.根據權利要求3所述的拋光設備，其特征在于，還包括裝載機械手(4)，所述安裝臺(1)上還設置有裝載區(12)，盛裝有待拋光的所述晶圓(100)的裝載晶圓盒(200)能夠放置在所述裝載區(12)，所述裝載機械手(4)能夠將所述晶圓(100)由所述裝載晶圓盒(200)中取出并放置在所述傳送機構(2)上。

6.根據權利要求5所述的拋光設備，其特征在于，還包括卸載機械手(5)，所述安裝臺(1)上還設置有卸載區(13)，卸載晶圓盒(300)能夠放置在所述卸載區(13)，拋光后的所述晶圓(100)能夠被放置在所述傳送機構(2)上，所述卸載機械手(5)能夠將所述傳送機構(2)上的拋光后的所述晶圓(100)放入至所述卸載晶圓盒(300)中。

7.根據權利要求6所述的拋光設備，其特征在于，所述卸載區(13)設置有水槽(14)，盛裝有所述晶圓(100)的所述卸載晶圓盒(300)能夠浸沒在所述水槽(14)中。

8.根據權利要求6所述的拋光設備，其特征在于，所述裝載區(12)沿所述第二水平方向與拋光精度最低的所述拋光區(11)相對設置；和/或

所述卸載區(13)沿所述第二水平方向與拋光精度最高的所述拋光區(11)相對設置。

9.根據權利要求1所述的拋光設備，其特征在于，所述拋光機構(3)還包括安裝架(35)，所述安裝架(35)沿所述第二水平方向可移動且沿豎直方向可升降地設置在所述安裝臺(1)上，每個所述拋光機構(3)中包括至少兩個所述拋光頭(32)，至少兩個所述拋光頭(32)均可轉動地安裝在所述安裝架(35)上，以使至少兩片所述晶圓(100)能夠在同一個所述拋光盤(31)上拋光。

10.根據權利要求9所述的拋光設備，其特征在于，每個所述拋光機構(3)包括兩個所述拋光頭(32)，兩個所述拋光頭(32)沿所述第一水平方向排列；和/或

每個所述拋光機構(3)包括四個所述拋光頭(32)，四個所述拋光頭(32)呈正方形陣列設置。