[發(fā)明專利]發(fā)光二極管及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911413164.6 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN113130783B | 公開(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 夏思雨;楊一行 | 申請(專利權)人: | TCL科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 44414 | 代理人: | 張楊梅 |
| 地址: | 516006 廣東省惠州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發(fā)光二極管 及其 制備 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管,包括:
陽極;
陰極;
設置在所述陽極和所述陰極之間的發(fā)光層;
設置在所述陰極和所述發(fā)光層之間的過渡層,所述過渡層包括貴金屬納米顆粒和金屬有機框架材料,所述金屬有機框架材料具有孔道結構,所述貴金屬納米顆粒負載在所述孔道結構中;其中,所述貴金屬納米顆粒和所述金屬有機框架材料的重量比為(1-10) : (90-99)。
2.根據(jù)權利要求1所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述金屬有機框架材料包括鋅基金屬有機框架材料、銅基金屬有機框架材料和鈷基金屬有機框架材料中的至少一種;和/或
所述貴金屬納米顆粒選自金納米顆粒、銀納米顆粒和鉑納米顆粒中的至少一種。
3.根據(jù)權利要求1至2中任一項所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述貴金屬納米顆粒的粒徑為30-50納米;和/或
所述過渡層的厚度為80-100納米;和/或
所述陰極的厚度為50-100納米。
4.根據(jù)權利要求1至2中任一項所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述陽極和所述發(fā)光層之間還設置有空穴注入層和/或空穴傳輸層;
所述空穴注入層的厚度為20-50納米;
所述空穴傳輸層的厚度為30-50納米。
5.根據(jù)權利要求1至2中任一項所述的發(fā)光二極管,其特征在于,所述發(fā)光層的發(fā)射波長為400-450nm。
6.一種發(fā)光二極管的制備方法,其特征在于,包括以下制備過渡層的步驟:
提供過渡層材料,所述過渡層材料包括貴金屬納米顆粒和金屬有機框架材料,所述金屬有機框架材料具有孔道結構,所述貴金屬納米顆粒負載在所述孔道結構中;其中,所述貴金屬納米顆粒和所述金屬有機框架材料的重量比為(1-10) : (90-99);
將所述過渡層材料沉積在基質上,形成過渡層;所述過渡層設置在陰極和發(fā)光層之間。
7.根據(jù)權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述基質包括:陰極以及形成在所述陰極上的電子傳輸層,將所述過渡層材料沉積在基質上的步驟包括:將所述過渡層材料沉積在所述電子傳輸層遠離所述陰極的表面。
8.根據(jù)權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述基質包括:陽極以及形成在所述陽極上的發(fā)光層,將所述過渡層材料沉積在基質上的步驟包括:將所述過渡層材料沉積在所述發(fā)光層遠離所述陽極的表面。
9.根據(jù)權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述貴金屬納米顆粒和所述金屬有機框架材料的重量比為(1-10) : (90-99);和/或
所述過渡層的厚度為80-100納米;和/或
所述金屬有機框架材料包括鋅基金屬有機框架材料、銅基金屬有機框架材料和鈷基金屬有機框架材料中的至少一種;和/或
所述貴金屬納米顆粒選自金納米顆粒、銀納米顆粒和鉑納米顆粒中的至少一種。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





