[發明專利]一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件及其形成圖像的方法

在審

• 申請號: 201911408294.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111158214A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 翁銀巧;陶烴;高邈;徐能平;應作挺;馬顯瑤;焦樂澤
• 申請（專利權）人: 浙江康爾達新材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;G03F7/004
• 代理公司: 溫州甌越專利代理有限公司 33211
• 代理人: 王庭輝

本發明提供了一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件，所述的可成像元件包含:（a）底基、（b）覆蓋在底基上方的內涂層、（c）覆蓋在內涂層上方的外涂層。所述的內涂層包含一種衍生自馬來酰亞胺單體和（甲基）丙烯酰胺單體的重復單元、并且可溶于堿性顯影液的聚合物粘結劑P；所述的外涂層包含一種紅外輻射吸收化合物和一種不同于內涂層的聚合物粘合劑Q。如此設計使得該可成像元件不僅可對最大波長為700~1200 nm的輻射敏感，而且當其用作平版印刷版前體時對化學溶劑具有良好的耐抗性，在使用過程中不易發生被印刷化學品侵蝕、溶解的現象，從而有利于延長平版印刷版的使用壽命。

技術領域

本發明涉及一種紅外輻射敏感材料及其由該材料制造的、具有改進耐化學品性能的陽圖型可成像元件。本發明具體地涉及印刷領域的一種紅外輻射敏感的陽圖型平版印刷版前體，及使用該前體獲得平版印刷版的方法。

背景技術

用于制備平版印刷版材的可成像元件通常包含施加在載體親水表面（或中間層）上的一個或多個可成像層，該可成像層包含一種或多種分散在粘結劑中的輻射敏感成分。在輻射成像后，通過合適的顯影劑將可成像層的曝光區域或非曝光區域除去，露出下方的載體親水表面。如果除去的是曝光區域，該可成像元件則被認為是陽圖制版，相反地，如果除去的是非曝光的區域，該可成像元件被認為是陰圖制版。無論哪種情況，可成像層中未被除去的區域是油墨接受性的，而通過顯影過程露出的親水表面則是接受水或水性溶液（通常是潤版液）而排斥油墨的。

現有技術中用于陽圖制版的可成像元件的輻射敏感成分通常是含有酚醛清漆或其它酚醛聚合物粘結劑和重氮醌成像組分的可成像組合物。除此之外，還有基于各種酚醛樹脂和紅外輻射吸收化合物的可成像組合物。在實際的平版印刷中，常用的印刷室化學品對可成像組合物具有侵蝕作用，例如印版清洗劑、轉印布洗滌劑和潤版液中的醇替代物，尤其是在使用可紫外線固化的油墨的印刷方法中所用到的具有高的酯類、醚類或酮類含量的漂洗劑。因此，為了保證可紫外線固化油墨的正常印刷，可成像組合物中使用的輻射敏感性組合物必須要有良好的耐侵蝕性。

然而，現有技術中常用的醌二疊氮化合物和酚醛樹脂輻射敏感性組合物均可溶于清潔印刷版用的二醇醚溶劑，并不利于可紫外線固化油墨的印刷。因此，如何提高可成像組合物對溶劑和印刷室化學品的耐受性已成為本領域亟待解決的一個技術問題。

發明內容

本發明要解決的主要技術問題在于克服現有用于陽圖型可成像元件的材料易受化學品侵蝕的缺陷，進而提供一種對含醇類化學品具有良好耐抗性的紅外敏感可成像元件及利用該材料制得的平版印刷版前體。

本發明解決上述技術問題的技術方案為：

一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件，其包含：

（a）底基；

（b）覆蓋在底基上方的內涂層, 其中包含一種衍生自馬來酰亞胺單體和（甲基）丙烯酰胺單體的重復單元、并且可溶于堿性顯影液的聚合物粘結劑P；

（c）覆蓋在內涂層上方的外涂層，包含一種紅外輻射吸收化合物和一種不同于內涂層的聚合物粘結劑Q。

所述的內涂層所包含的聚合物粘結劑P可由下面構造式（I）表示：

— (A) _x—(B)_y—(C)_z— (I)