[發明專利]一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件及其形成圖像的方法

在審

• 申請號: 201911408294.0
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111158214A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 翁銀巧;陶烴;高邈;徐能平;應作挺;馬顯瑤;焦樂澤
• 申請（專利權）人: 浙江康爾達新材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;G03F7/004
• 代理公司: 溫州甌越專利代理有限公司 33211
• 代理人: 王庭輝

1.一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件，其特征在于包含：

（a）底基；

（b）覆蓋在底基上方的內涂層, 所述內涂層包含一種衍生自馬來酰亞胺單體和（甲基）丙烯酰胺單體的重復單元、并且可溶于堿性顯影液的聚合物粘結劑P；

（c）覆蓋在內涂層上方的外涂層，所述外涂層包含一種紅外輻射吸收化合物和一種不同于內涂層的聚合物粘結劑Q。

2.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述的內涂層所包含的聚合物粘結劑P可由下面構造式（I）表示：

— (A) _x—(B)_y—(C)_z— (I)

A代表衍生自一種或多種馬來酰亞胺單體( ) 的重復單元，其中R 可以任選取代或非取代的烷基、取代或非取代的環烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的雜芳基、羥基、取代或非取代的烷氧基； B代表衍生自一種或多種（甲基）丙烯酰胺單體 ( ) 的重復單元，其中R₁可以任選氫、取代或非取代的烷基、取代或非取代的環烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的雜芳基、羥基、取代或非取代的烷氧基；R₂可以任選氫或甲基； C代表衍生自一種或多種不同于A和B的其它烯鍵式不飽和可聚合單體的重復單元； 其中基于構造式（I）聚合物粘結劑P的總重量 x+y+z= 100％， 其中x為1~85wt%、y為1~80wt%、z為1~80wt%的任意組合。

3.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件, 其特征在于：所述聚合物粘合劑P占內涂層總重量的40 ~ 99.9 wt%。

4.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件, 其特征在于：所述的內涂層還包含一種背景對比染料，所述背景對比染料為在可見光區域中具有高吸收的染料，所述背景對比染料的添加量占所述內涂層總重量的0.1~8 wt%。

5.根據權利要求4所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述背景對比染料為油溶性染料和/或堿性染料中的一種或多種混合。

6.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件, 其特征在于：所述的內涂層還包含一種紅外輻射吸收化合物，所述紅外輻射吸收化合物的波長吸收范圍為700-1200nm，所述紅外輻射吸收化合物的添加量占所述內涂層總重量的0.1~10 wt%。

7.根據權利要求6所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述紅外輻射吸收化合物為花菁染料、蒽醌染料、酞菁染料、醌亞胺染料或甲川菁染料中的一種或多種。

8.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述的內涂層還包含一種產酸劑，所述產酸劑的添加量占所述內涂層總重量的0.1~10 wt%。

9.根據權利要求8所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述產酸劑為鎓鹽、三嗪、酸酐、磺酸酯中的一種或多種。

10.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述內涂層還包含一種聚合物粘結劑P₁，所述聚合物粘結劑P1可選自酚醛樹酯、聚苯乙烯衍生物、聚氨酯和不同于聚合物粘結劑P的聚丙烯酸（酯）中的一種或多種，所述粘結劑P1的添加量占所述內涂層總重量的1~40 wt%。

11.根據權利要求1所述的陽圖型可成像元件，其特征在于：所述的外涂層包含一種具有波長吸收范圍在700-1200nm之間的紅外輻射吸收化合物和一種不同于內涂層的聚合物粘結劑Q，所述紅外輻射吸收化合物的添加量占所述外涂層總重量的0.5~10wt%； 所述聚合物粘結劑Q的添加量占所述外涂層總重量的80~99.5wt%。