[發明專利]一種紋織圖生成方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201911402730.3
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111177809B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 趙謙;孫方方;周海麗;李超;張立泉;郭洪偉
• 申請（專利權）人: 南京玻璃纖維研究設計院有限公司;中材科技股份有限公司
• 主分類號: G06F30/10
• 分類號: G06F30/10;G06F113/12
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李博洋

本發明公開了一種紋織圖生成方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質，該方法包括：獲取待制備預制體單元結構的結構信息；結構信息包括待制備預制體單元結構的經紗列數、經紗層數、緯紗列數、緯紗層數以及經紗和緯紗的位置關系；根據結構信息得到待生成紋織圖的行列數，以及待生成紋織圖中的各個像素點與待制備預制體單元結構中的緯紗和經紗的對應關系；根據對應關系，以及經紗和緯紗的位置關系得到各個像素點的像素值，生成待生成紋織圖；像素值包括第一像素值和第二像素值，當像素點對應的經紗在對應的緯紗的上方時，像素點的像素值為第一像素值，否則，像素點的像素值為第二像素值。通過實施本發明，能夠自動生成待制備預制體單元結構的紋織圖。

技術領域

本發明涉及制造技術領域，尤其涉及到一種紋織圖生成方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質成。

背景技術

三維機織預制體作為一種復合材料增強結構，越來越廣泛應用于航空、航天、建筑、汽車等領域。由于使用傳統二代織機制造三維預制體的過程大部分工序需要人工參與，且由于開口的控制是通過綜框升降進行控制，當組織結構不同時，所需綜框數量也就不同，特別是對于復雜結構組織的制造，需要多綜框才能完成，也即使用傳統二代織機制造三維機織預制體的效率低，且組織結構受綜框數量限制，因此，為了滿足制備需求，目前進行三維預制體的制造時大多采用電子提花系統來實現對開口的控制，該系統的特點是每根經紗的運動可以獨立被控制，所有經、緯紗的運動關系都體現在紋織圖上，對于任意結構的預制體，只要能夠提供相應的紋織圖，就可以實現任意結構的預制體織造。因此，紋織圖的編輯是整個織造過程的關鍵和難點。

目前，紋織圖生成過程主要包括：建立基元組織-建立組織對應顏色-鋪設組織在紋織圖對應的色塊上-生成紋板，但是，由于上述過程中的最主要步驟“鋪設組織在紋織圖對應的色塊上”為人工手動鋪設，因此，該紋織圖生成方法僅適用于基元組織簡單且數量有限的預制體紋織圖的生成，而對于組織結構復雜、結構變化多樣的預制體，使用上述方法的紋織圖將耗費大量時間，且在生成的過程中出錯的可能性較大，生成的紋織圖的準確性低。

發明內容

有鑒于此，本發明實施例提供了一種紋織圖生成方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質，以解決現有紋織圖生成需要通過人工對紋織圖中的色塊(也即像素點)進行鋪色的方式實現，紋織圖的生成效率和準確性均較低的問題。

根據第一方面，本發明實施例提供了一種紋織圖生成方法，包括如下步驟：獲取待制備預制體單元結構的結構信息；結構信息包括待制備預制體單元結構的經紗列數、經紗層數、緯紗列數、緯紗層數以及經紗和緯紗的位置關系；根據結構信息得到待生成紋織圖的行列數，以及待生成紋織圖中的各個像素點與待制備預制體單元結構中的緯紗和經紗的對應關系；根據對應關系，以及經紗和緯紗的位置關系得到各個像素點的像素值，生成待生成紋織圖；像素值包括第一像素值和第二像素值，當像素點對應的經紗在對應的緯紗的上方時，像素點的像素值為第一像素值，當像素點對應的經紗在對應的緯紗下方時，像素點的像素值為第二像素值。

通過獲取待制備預制體單元結構的結構信息，獲取包括待制備預制體單元結構的經紗列數、經紗層數、緯紗列數、緯紗層數以及經紗和緯紗的位置關系的結構信息，獲取了能夠描述待制備預制體單元結構的三維機織結構的數據信息，為后續紋織圖的生成做了數據準備，而根據結構信息得到待生成紋織圖的行列數，以及待生成紋織圖中的各個像素點與待制備預制體單元結構中的緯紗和經紗的對應關系，使得能夠根據該對應關系從結構信息中獲取與待生成紋織圖中的各個像素點相對應的經紗和緯紗之間的位置關系，從而在定義了像素點對應的經紗在對應的緯紗的上方時，像素點的像素值為第一像素值，當像素點對應的經紗在對應的緯紗下方時，像素點的像素值為第二像素值后，最終能夠根據對應關系，以及經紗和緯紗的位置關系實現對待生成紋織圖各個像素點的像素值的確定，實現待生成紋織圖的自動生成。