[發明專利]一種紋織圖生成方法、裝置、電子設備及可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201911402730.3
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN111177809B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 趙謙;孫方方;周海麗;李超;張立泉;郭洪偉
• 申請（專利權）人: 南京玻璃纖維研究設計院有限公司;中材科技股份有限公司
• 主分類號: G06F30/10
• 分類號: G06F30/10;G06F113/12
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李博洋

1.一種紋織圖生成方法，其特征在于，包括如下步驟：

獲取待制備預制體單元結構的結構信息；所述結構信息包括所述待制備預制體單元結構的經紗列數、經紗層數、緯紗列數、緯紗層數以及經紗和緯紗的位置關系，其中，使用結構矩陣表示所述經紗和緯紗的位置關系，所述結構矩陣的行數表示所述經紗的總根數，所述結構矩陣的列數表示所述緯紗的列數，所述結構矩陣中的元素表示在對應的緯紗列中，位于對應的經紗與所述對應的經紗的上一層經紗之間的緯紗的數量；

根據所述結構信息得到待生成紋織圖的行列數，以及所述待生成紋織圖中的各個像素點與所述待制備預制體單元結構中的緯紗和經紗的對應關系；

根據所述對應關系，以及所述經紗和緯紗的位置關系得到所述各個像素點的像素值，生成所述待生成紋織圖；所述像素值包括第一像素值和第二像素值，當所述像素點對應的經紗在對應的緯紗的上方時，所述像素點的像素值為第一像素值，當所述像素點對應的經紗在對應的緯紗下方時，所述像素點的像素值為第二像素值；

其中，當所述待生成紋織圖的行和列與待指標預制體單元結構中的經紗和緯紗一一對應時，所述待生成紋織圖中第m行第n列的像素點對應于所述待制備預制體單元結構第m根緯紗和第n根經紗，所述根據所述對應關系，以及經紗和緯紗的位置關系得到所述各個像素點的像素值，生成所述待生成紋織圖的步驟，包括：

根據所述結構矩陣中的矩陣元素依次計算在各列緯紗中，位于第s根經紗上的緯紗總數，并根據所述緯紗總數得到所述待生成紋織圖中第s列像素點的像素值；所述第s根經紗為所述待制備預制體單元結構中的j列經紗中的第q層經紗，一列緯紗中，位于所述第s根經紗上的緯紗總數為所述結構矩陣對應的列中，第j列經紗中的第1層經紗對應的行～第j列經紗中的第q層經紗對應的行的矩陣元素的和值；

其中，通過以下方式計算得到所述待生成紋織圖中各個像素點的像素值：

根據所述矩陣元素依次計算在i列緯紗中，位于第s根經紗上的緯紗總數；根據緯紗總數以及第i列緯紗的層數，得到所述待生成紋織圖的第s列中與第i列緯紗中的各層緯紗相對應的像素點的像素值；當得到所述待生成紋織圖的所有像素點的像素值后，生成待生成紋織圖。

2.根據權利要求1所述的紋織圖生成方法，其特征在于，所述獲取待制備預制體單元結構的結構信息的步驟，包括：

獲取待制備預制體單元結構的基元組織的結構信息；所述基元組織的結構信息包括所述基元組織的經紗列數、經紗層數、緯紗列數、緯紗層數以及經紗和緯紗的位置關系；

獲取待制備預制體單元結構的實際經紗層數信息和所述基元組織的增紗位置信息；

根據所述實際經紗層數信息和所述增紗位置信息對所述基元組織進行增層處理，得到所述待制備預制體單元結構的結構信息。

3.根據權利要求1所述的紋織圖生成方法，其特征在于，當所述待生成紋織圖中僅部分列與所述待制備預制體單元結構的經紗一一對應時，所述待生成紋織圖的行數為根據所述待制備預制體單元結構的所述緯紗層數和所述緯紗列數得到，所述紋織圖的列數為根據所述待制備預制體單元結構的所述經紗列數和所述待生成紋織圖中一列經紗的預設拴紗數得到；所述預設拴紗數大于或者等于所述經紗層數。

4.根據權利要求3所述的紋織圖生成方法，其特征在于，所述根據所述對應關系，以及所述經紗和緯紗的位置關系得到所述各個像素點的像素值，生成所述待生成紋織圖的步驟，包括：

根據所述經紗列數、所述經紗層數以及所述預設拴紗數得到所述待生成紋織圖中與所述第s根經紗相對應的列號J_S；所述第s根經紗為所述待制備預制體單元結構中的j列經紗中的第q層經紗；

根據所述結構矩陣中的矩陣元素依次計算在各列緯紗中，位于第s根經紗上的緯紗總數，并根據所述緯紗總數得到所述待生成紋織圖中第J_S列像素點的像素值；一列緯紗中，位于所述第s根經紗上的緯紗總數為所述結構矩陣對應的列中，第j列經紗中的第1層經紗對應的行～第j列經紗中的第q層經紗對應的行的矩陣元素的和值。