[發明專利]一種圖案化的鈣鈦礦量子點光學膜的制備方法及應用

有效

• 申請號: 201911400511.1
• 申請日: 2019-12-30
• 公開（公告）號: CN113122249B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 鐘海政;詹雯杰
• 申請（專利權）人: 致晶科技（北京）有限公司;北京理工大學
• 主分類號: C09K11/66
• 分類號: C09K11/66;C09K11/02;C08L33/12;C08L33/20;C08K3/16;C08J5/18;G09F9/33;B82Y20/00;B82Y30/00
• 代理公司: 北京元周律知識產權代理有限公司 11540
• 代理人: 張瑩;楊曉云

1.一種圖案化的鈣鈦礦量子點光學膜的制備方法，其特征在于，至少包括：將含有鈣鈦礦量子點前驅體的待處理膜，在激光的照射下，反應，得到圖案化的鈣鈦礦量子點光學膜；

其中，所述鈣鈦礦量子點光學膜中含有鈣鈦礦量子點；

所述含有鈣鈦礦量子點前驅體的待處理膜采用以下步驟制備得到：

將含有鈣鈦礦量子點前驅體和透明樹脂基質的溶液Ⅰ涂覆在基板上，得到所述含有鈣鈦礦量子點前驅體的待處理膜；

所述鈣鈦礦量子點前驅體分布在所述透明樹脂基質中；

所述激光的波長為365nm～650nm。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述待處理膜的厚度為0.01～500μm。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鈣鈦礦量子點前驅體包括鹵化物I和鹵化物II；

所述鹵化物I選自具有式I所示化學式的化合物中的至少一種：

M¹X¹_n式I

其中，M¹為金屬陽離子，所述金屬選自In、Ag、Al、Ti、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Cu、Mn中的至少一種，X¹為鹵素陰離子，所述鹵素選自Cl、Br、I中的至少一種，n為M的價態；

所述鹵化物II選自具有式II所示化學式的化合物中的至少一種：

A¹X²式II

其中，A¹選自Cs⁺、CH₃NH₃⁺中的至少一種，X²為鹵素陰離子，所述鹵素選自Cl、Br、I中的至少一種。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述鹵化物I和鹵化物II的摩爾比為0.6:1～1.4:1。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述透明樹脂基質為溶解于二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞砜極性溶劑中的透明材料。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述透明樹脂基質包括聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚醋酸乙烯酯、醋酸纖維素、聚砜、聚酰胺、聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇、ABS塑料、聚丙烯腈中的至少一種。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述激光的功率為0.1mW～40mW。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述激光包括飛秒激光、穩態激光中的任一種；所述激光的能量密度為0.5～50KJ/cm²。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述激光為飛秒激光；所述激光的脈沖寬度為50～200fs。

10.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述激光的光斑直徑為0.5～50μm。

11.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鈣鈦礦量子點的化學式如式Ⅲ所示：

ABX₃式Ⅲ

其中，A包括Cs⁺、CH₃NH₃⁺中的至少一種；

B選自In、Ag、Al、Ti、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Cu、Mn中的至少一種；

X選自Cl^-、Br^-、I^-中的至少一種。

12.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述鈣鈦礦量子點光學膜中還含有透明樹脂基質；

所述鈣鈦礦量子點分布在所述透明樹脂基質中。