[發明專利]一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx 有效
| 申請號： | 201911396525.0 | 申請日： | 2019-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN112028120B | 公開（公告）日： | 2023-01-06 |
| 發明（設計）人： | 張碧田;彭程;石志霞;孫靜;段華英;張恒 | 申請（專利權）人： | 有研資源環境技術研究院（北京）有限公司 |
| 主分類號： | C01G25/02 | 分類號： | C01G25/02;C03C17/245 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人： | 張晶 |
| 地址： | 101407 北京市懷*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 光學薄膜 zro base sub | ||
1.一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)以ZrO2和ZrH2粉體為原料，按一定比例稱量后進行混合；
(2)混合均勻后的粉體進行壓塊或造粒，得到塊體或顆粒；
(3)得到的塊體或顆粒在高溫真空下進行固相合成反應；
(4)反應結束在真空下冷卻至室溫，得到ZrOx鍍膜材料；
其中，步驟(1)中的ZrO2和ZrH2粉體目數要求為-250目，原料配比為ZrO2 35wt％～75wt％，ZrH2 25wt％～65wt％；
步驟(3)中得到的塊體或顆粒的高溫固相合成溫度為1500～2100℃。
2.根據權利要求1所述的一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述混合方式為攪拌混合或球磨混合。
3.根據權利要求1所述的一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，步驟(1)中ZrO2和ZrH2混合時間4～10小時。
4.根據權利要求1所述的一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，所述壓塊為在300～800N/cm2的壓力下壓塊，得到塊體；所述造粒為在300～800N/cm2的壓力下壓塊，然后將得到的塊體進行破碎，篩分后收集粒度為1-5mm的顆粒。
5.據權利要求1所述的一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，得到的塊體或顆粒的固相合成真空度為10Pa～1x10-3Pa。
6.根據權利要求1所述的一種用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法，其特征在于，得到的塊體或顆粒的固相合成時間為3～20小時。
7.一種根據權利要求1至6任一項所述的用于鍍制光學薄膜的ZrOx的制備方法制備的ZrOx，其特征在于，該ZrOx中x＝0.8～1.2。
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