[發(fā)明專利]一種摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911392947.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111162173B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于軍勝;王超;陳善勇;李璐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L51/42 | 分類號(hào): | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
| 代理公司: | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51230 | 代理人: | 寧政 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 摻雜 電子 傳輸 有機(jī) 光電 探測(cè)器 及其 制備 方法 | ||
1.一種摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器,從下至上依次設(shè)置為襯底(1)、透明導(dǎo)電陰極ITO(2)、電子傳輸層(3)、光活性層(4)、空穴傳輸層(5)和金屬陽(yáng)極(6),其特征在于,所述電子傳輸層(3)由ZnO納米顆粒溶液和摻雜PCBM混合而成,厚度為40~50nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器,其特征在于,所述光活性層(4)由電子給體材料P3HT和電子受體材料IEICO-4F混合而成,厚度為200~300nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器,其特征在于,所述空穴傳輸層(5)材料MoO3,厚度為15nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器,其特征在于,所述金屬陽(yáng)極(6)材料為Ag、Al和Au中的一種或多種,薄層厚度為100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器,其特征在于,所述襯底(1)為透明聚合物材料,所述透明聚合物材料包括聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨基甲酸酯、聚酰亞胺、氯醋樹(shù)脂或聚丙烯酸中的一種或多種。
6.一種摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:對(duì)由襯底(1)及透明導(dǎo)電陰極ITO(2)所組成的基板進(jìn)行清洗,清洗后用氮?dú)獯蹈桑?/p>
步驟2:將ZnO納米顆粒溶液和摻雜PCBM混合配置成電子傳輸層(3)溶液,其中摻雜的PCBM體積比為3%、5%、8%、10%、12%、15%、18%、20%,再將配置好的電子傳輸層(3)溶液旋涂至ITO基板上,并將旋涂后的基片進(jìn)行熱退火處理,得到電子傳輸層(3);
步驟3:在電子傳輸層(3)上制備光活性層(4),將電子給體材料P3HT和電子受體材料IEICO-4F按質(zhì)量比1:1進(jìn)行混合,制得光活性層(4)溶液,再將光活性層(4)溶液旋涂電子傳輸層(3)上制備成光活性層(4);
步驟4:在真空度為3×103Pa條件下,在光活性層(4)表面蒸鍍MoO3,制備得到空穴傳輸層(5);
步驟5:在空穴傳輸層(5)上蒸鍍金屬陽(yáng)極(6)。
7.據(jù)權(quán)利要求6所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器制備方法,其特征在于,步驟2中,所述熱退火溫度為150℃,時(shí)間為15min。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器制備方法,其特征在于,步驟2中,所述熱退火方式為恒溫?zé)崤_(tái)加熱、烘箱加熱、遠(yuǎn)紅外加熱、熱風(fēng)加熱中的一種或多種。
9.據(jù)權(quán)利要求6所述的摻雜型電子傳輸層的有機(jī)光電探測(cè)器制備方法,其特征在于,步驟3中,所述光活性層(4)溶液濃度為30mg/ml。
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H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
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