[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911389225.X
• 申請(qǐng)日: 2019-12-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110943029A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈文杰;朱亮;董醫(yī)芳;祝廣輝;湯承偉;俞城;麻鵬達(dá);周航;章杰峰
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江求是半導(dǎo)體設(shè)備有限公司;浙江晶盛機(jī)電股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/687
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/687
• 代理公司: 杭州中成專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 33212
• 代理人: 周世駿

1.一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：包括內(nèi)環(huán)基座和外環(huán)基座，所述內(nèi)環(huán)基座主體為圓盤(pán)結(jié)構(gòu)，圓盤(pán)結(jié)構(gòu)下端面設(shè)有一個(gè)同軸的凸臺(tái)；

所述外環(huán)基座為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)，外環(huán)基座內(nèi)緣設(shè)有臺(tái)階，內(nèi)環(huán)基座上的凸臺(tái)與外環(huán)基座內(nèi)緣的臺(tái)階形狀相匹配，使得內(nèi)環(huán)基座嵌設(shè)于外環(huán)基座內(nèi)；內(nèi)環(huán)基座下端面通過(guò)內(nèi)環(huán)支撐裝置連接升降機(jī)構(gòu)；外環(huán)基座下端面通過(guò)外環(huán)支撐裝置連接旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：所述外環(huán)基座上表面設(shè)有與外環(huán)基座同軸的圓形凹槽，用于放置基片，所述圓形凹槽直徑大于基片直徑；所述圓形凹槽底面為平面或向下凹的圓弧面，圓形凹槽外圈設(shè)有一環(huán)形退刀槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：所述內(nèi)環(huán)基座下表面中心設(shè)有一圓形凹槽，用于放置熱電偶探頭。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：所述外環(huán)基座與內(nèi)環(huán)基座嵌合時(shí)，內(nèi)環(huán)基座上表面低于外環(huán)基座上表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：所述內(nèi)環(huán)支撐裝置為管軸，管軸上部通過(guò)多個(gè)圍繞內(nèi)軸均布的臂與內(nèi)環(huán)基座相連。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體外延系統(tǒng)的雙環(huán)式基座，其特征在于：所述基座下端面設(shè)有與外緣同軸的環(huán)形凹槽，環(huán)形凹槽設(shè)有兩個(gè)半圓形止口，外環(huán)支撐裝置包括管軸，管軸上部連接多個(gè)圍繞外軸均布的臂，臂端部嵌設(shè)于外環(huán)基座下端面的環(huán)形凹槽內(nèi)。