[發明專利]光學鄰近效應修正方法和系統、掩膜版及其制備方法

在審

• 申請號: 201911382862.4
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN113050367A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 陳術;游林
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36;G03F7/20
• 代理公司: 上海知錦知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31327
• 代理人: 吳凡

1.一種光學鄰近效應修正方法，其特征在于，包括：

獲取待修正主圖形和所述待修正主圖形的重疊圖形及重疊邊，在所述待修正主圖形中，所述待修正主圖形和其他的主圖形按照光刻位置重疊的部分為重疊圖形，所述重疊圖形在所述待修正主圖形的外邊緣上的邊為重疊邊；

在待修正的所述重疊邊的相鄰位置設置散射條輔助圖形，所述散射條輔助圖形的設置方向與所述待修正主圖形的設置方向平行，所述散射條輔助圖形的長度小于最小曝光長度。

2.如權利要求1所述的光學鄰近效應修正方法，其特征在于，每個所述散射條輔助圖形對應于一個待修正的所述重疊邊。

3.如權利要求2所述的光學鄰近效應修正方法，其特征在于，所述散射條輔助圖形在其所對應的所述重疊邊所在直線上的投影覆蓋其所對應的所述重疊邊。

4.如權利要求2或3所述的光學鄰近效應修正方法，其特征在于，所述散射條輔助圖形關于其所對應的所述重疊邊的垂直對稱軸對稱。

5.如權利要求1所述的光學鄰近效應修正方法，其特征在于，每個所述散射條輔助圖形對應于兩個待修正的所述重疊邊，所述散射條輔助圖形在其所對應的任一所述重疊邊所在直線上的投影覆蓋其所對應的所述重疊邊。

6.如權利要求5所述的光學鄰近效應修正方法，其特征在于，所述散射條輔助圖形關于其所對應的兩個所述重疊邊所組成的組合圖形的垂直對稱軸對稱。

7.一種光學鄰近效應修正系統，其特征在于，包括：

圖形獲取單元，所述圖形獲取單元適于獲取待修正主圖形和所述待修正主圖形的重疊圖形及重疊邊；所述重疊圖形為在所述待修正主圖形中，所述待修正主圖形和其他的主圖形按照光刻位置重疊的部分；所述重疊邊為所述重疊圖形在所述待修正主圖形的外邊緣上的邊；

散射條輔助圖形設置單元，所述散射條輔助圖形設置單元適于在待修正的所述重疊邊的相鄰位置設置散射條輔助圖形，所述散射條輔助圖形的設置方向與所述待修正主圖形的設置方向平行，所述散射條輔助圖形的長度小于最小曝光長度。

8.如權利要求7所述的光學鄰近效應修正系統，其特征在于，每個所述散射條輔助圖形對應于一個待修正的所述重疊邊。

9.如權利要求8所述的光學鄰近效應修正系統，其特征在于，所述散射條輔助圖形在其所對應的所述重疊邊所在直線上的投影覆蓋其所對應的所述重疊邊。

10.如權利要求8或9所述的光學鄰近效應修正系統，其特征在于，所述散射條輔助圖形關于其所對應的所述重疊邊的垂直對稱軸對稱。

11.如權利要求7所述的光學鄰近效應修正系統，其特征在于，每個所述散射條輔助圖形對應于兩個待修正的所述重疊邊，所述散射條輔助圖形在其所對應的任一所述重疊邊所在直線上的投影覆蓋其所對應的所述重疊邊。

12.如權利要求11所述的光學鄰近效應修正系統，其特征在于，所述散射條輔助圖形關于其所對應的兩個所述重疊邊所組成的組合圖形的垂直對稱軸對稱。

13.一種掩膜版的制備方法，其特征在于，包括：

權利要求1-6任一項所述的光學鄰近效應修正方法；

將所述待修正主圖形和所述散射條輔助圖形轉移至掩模版。

14.一種掩膜版，其特征在于，所述掩膜版設置有待修正主圖形和散射條輔助圖形；

在所述待修正主圖形中，所述待修正主圖形和其他的主圖形按照光刻位置重疊的部分為重疊圖形，所述重疊圖形在所述待修正主圖形的外邊緣上的邊為重疊邊；

所述散射條輔助圖形設置于待修正的所述重疊邊的相鄰位置，所述散射條輔助圖形的設置方向與所述待修正主圖形的設置方向平行，所述散射條輔助圖形的長度小于最小曝光長度。