[發(fā)明專(zhuān)利]一種排液罩以及半導(dǎo)體清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911377392.2
• 申請(qǐng)日: 2019-12-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111069219B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧信甫
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海至純潔凈系統(tǒng)科技股份有限公司;至微半導(dǎo)體（上海）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B08B15/02
• 分類(lèi)號(hào): B08B15/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱英靜

本發(fā)明公開(kāi)了一種排液罩以及半導(dǎo)體清洗設(shè)備，采用本發(fā)明的排液罩，通過(guò)旋轉(zhuǎn)外殼體或者內(nèi)殼體能夠切換所述進(jìn)氣通道與所述吸氣孔導(dǎo)通與非導(dǎo)通，當(dāng)進(jìn)氣通道與吸氣孔導(dǎo)通時(shí)，位于排液罩的氣體能夠通過(guò)進(jìn)氣通道和吸氣孔進(jìn)入排氣腔體中，并由排氣口排出；當(dāng)進(jìn)氣通道與吸氣孔非導(dǎo)通時(shí)，位于排液罩的氣體并不能通過(guò)該設(shè)備排出；與此同時(shí)，匯集在排液腔體中的液體經(jīng)過(guò)排液口排出。可見(jiàn)采用本發(fā)明的排液罩能夠同時(shí)進(jìn)行排液或排氣或者只排液，一個(gè)設(shè)備同時(shí)具備排液和排氣兩種功能，從而減小了設(shè)備的占用空間。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種排液罩以及半導(dǎo)體清洗設(shè)備。

背景技術(shù)

為了有效地清除單晶圓表面結(jié)構(gòu)的殘余物、微塵、臟污需要對(duì)單晶圓表面進(jìn)行清洗。目前，通過(guò)采用半導(dǎo)體清洗設(shè)備對(duì)單晶圓進(jìn)行清洗，在清洗單晶圓時(shí)，將單晶圓置于半導(dǎo)體清洗設(shè)備的腔體中，快速旋轉(zhuǎn)單晶圓并通過(guò)氣體噴流的方式清洗單晶圓上下兩面，清洗過(guò)程中涉及到清洗液的排出以及氣體的排出，而單獨(dú)設(shè)置排液機(jī)構(gòu)以及排氣機(jī)構(gòu)增加了設(shè)備的占用空間。

因此，如何減少設(shè)備占用空間，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是如何減少設(shè)備占用空間，為此，本發(fā)明提供了一種排液罩以及半導(dǎo)體清洗設(shè)備。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種排液罩，包括：

外殼體，所述外殼體上設(shè)置有進(jìn)氣通道；

內(nèi)殼體，所述內(nèi)殼體可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在所述外殼體上，所述內(nèi)殼體的內(nèi)部或者所述外殼體的內(nèi)部圍成排液腔體，所述內(nèi)殼體和/或所述外殼體圍成排氣腔體，所述內(nèi)殼體的外表面設(shè)置有與所述排氣腔體連通的吸氣孔；

排液口，所述排液口設(shè)置在所述外殼體或所述內(nèi)殼體上，并與所述排液腔體連通；

排氣口，所述排氣口設(shè)置在所述外殼體或所述內(nèi)殼體上，并與所述排氣腔體連通；

所述外殼體或所述內(nèi)殼體旋轉(zhuǎn)時(shí)，能夠切換所述進(jìn)氣通道與所述吸氣孔導(dǎo)通與非導(dǎo)通。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，所述內(nèi)殼體包括：

底板，所述底板的中部設(shè)置有所述排液口，所述底板靠近邊緣的部位設(shè)置有所述排氣口；

第一內(nèi)殼板，所述第一內(nèi)殼板自所述底板的外邊緣向所述內(nèi)殼體的軸向延伸，所述吸氣孔設(shè)置在所述第一內(nèi)殼板上；以及

第二內(nèi)殼板，所述第二內(nèi)殼板自所述底板向所述內(nèi)殼體的軸向延伸，并使得所述排氣口介于所述第二內(nèi)殼板和所述第一內(nèi)殼板之間的區(qū)域。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，

所述第一內(nèi)殼板、所述第二內(nèi)殼板、所述底板與所述外殼體的一部分共同圍成所述排氣腔體；

所述第二內(nèi)殼板與所述底板共同圍成所述排液腔體。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，所述底板自所述第二內(nèi)殼板向所述排液口傾斜布置。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，所述吸氣孔為多組，每組包括多個(gè)吸氣孔，每組中的吸氣孔沿著所述內(nèi)殼體的軸向布置，相鄰組之間的距離相等。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，所述外殼體包括：

呈環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板；

設(shè)置在所述頂板的外環(huán)的第一外殼板；以及

設(shè)置在所述頂板的內(nèi)環(huán)的第二外殼板，所述進(jìn)氣通道連通所述第二外殼板與所述第一外殼板。

本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例中，所述頂板上設(shè)置有與所述第二內(nèi)殼板的頂部相適配的環(huán)形卡槽。