[發(fā)明專利]一種排液罩以及半導體清洗設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911377392.2
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN111069219B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設計）人: 鄧信甫
• 申請（專利權）人: 上海至純潔凈系統(tǒng)科技股份有限公司;至微半導體（上海）有限公司
• 主分類號: B08B15/02
• 分類號: B08B15/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱英靜

1.一種排液罩，其特征在于，包括：外殼體、內(nèi)殼體、排液口和排氣口，其中：

所述外殼體上設置有進氣通道；所述外殼體包括：呈環(huán)狀結構的頂板；設置在所述頂板的外環(huán)的第一外殼板；以及設置在所述頂板的內(nèi)環(huán)的第二外殼板，所述進氣通道連通所述第二外殼板與所述第一外殼板；

所述內(nèi)殼體可轉(zhuǎn)動的設置在所述外殼體上，所述內(nèi)殼體的內(nèi)部圍成排液腔體，所述內(nèi)殼體和/或所述外殼體圍成排氣腔體，所述內(nèi)殼體的外表面設置有與所述排氣腔體連通的吸氣孔；所述內(nèi)殼體包括：底板，所述底板的中部設置有所述排液口，所述排液口與所述排液腔體連通；所述底板靠近邊緣的部位設置有所述排氣口，所述排氣口與所述排氣腔體連通；第一內(nèi)殼板，所述第一內(nèi)殼板自所述底板的外邊緣向所述內(nèi)殼體的軸向延伸，所述吸氣孔設置在所述第一內(nèi)殼板上；以及第二內(nèi)殼板，所述第二內(nèi)殼板自所述底板向所述內(nèi)殼體的軸向延伸，并使得所述排氣口介于所述第二內(nèi)殼板和所述第一內(nèi)殼板之間的區(qū)域；

所述外殼體或所述內(nèi)殼體旋轉(zhuǎn)時，能夠切換所述進氣通道與所述吸氣孔導通與非導通。

2.如權利要求1所述的排液罩，其特征在于，

所述第一內(nèi)殼板、所述第二內(nèi)殼板、所述底板與所述外殼體的一部分共同圍成所述排氣腔體；

所述第二內(nèi)殼板與所述底板共同圍成所述排液腔體。

3.如權利要求2所述的排液罩，其特征在于，所述底板自所述第二內(nèi)殼板向所述排液口傾斜布置。

4.如權利要求2所述的排液罩，其特征在于，所述吸氣孔為多組，每組包括多個吸氣孔，每組中的吸氣孔沿著所述內(nèi)殼體的軸向布置，相鄰組之間的距離相等。

5.如權利要求4所述的排液罩，其特征在于，所述頂板上設置有與所述第二內(nèi)殼板的頂部相適配的環(huán)形卡槽。

6.如權利要求4所述的排液罩，其特征在于，所述第一外殼板靠近所述第一內(nèi)殼板的一端設置有卡扣；所述第一內(nèi)殼板對應部位設置有與所述卡扣相配合的卡槽，所述第一內(nèi)殼板位于所述第一外殼板與所述第二外殼板之間。

7.如權利要求4所述的排液罩，其特征在于，所述進氣通道為多個，多個所述進氣通道沿所述外殼體的周向布置，每個所述進氣通道對應一組吸氣孔。

8.一種半導體清洗設備，其特征在于，包括如權利要求1至7中任一項所述的排液罩和驅(qū)動所述外殼體或所述內(nèi)殼 體旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構。

9.如權利要求8所述的半導體清洗設備，其特征在于，還包括于所述排液罩的排氣口連通的抽氣機構。