[發明專利]一種高密度金屬靶材制備工藝

在審

• 申請號: 201911377170.0
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN111004993A
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發明（設計）人: 藺裕平;韓剛庫
• 申請（專利權）人: 梭萊鍍膜工業(江陰)有限公司
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/06
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王凱

本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，所述工藝為：將靶材(1)放置于靶材驅動總成上后，先對噴涂密封艙(101)抽真空使得艙內形成壓力為2Pa的密閉真空環境；隨后，靶材驅動總成啟動，驅動靶材旋轉的同時進行左右平移，與此同時，等離子噴槍系統(201)的噴槍開始噴涂對靶材(1)進行噴涂；且在噴涂過程中，紅外溫度傳感器(106)對靶材(1)的表面溫度實時監測，當溫度偏離設定點時，等離子噴槍系統(201)的功率以及其供絲速度隨之調整，從而讓靶材(1)的表面始終保持微熔狀態。本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，其能夠在真空環境下進行噴涂，從而保證靶材的噴涂質量。

技術領域

本發明涉及一種靶材制備工藝，尤其是涉及一種在密閉低壓氛圍內進行噴涂的制備工藝。

背景技術

目前，低熔點金屬靶材的制備工藝多為鑄造工藝，存在晶粒不均勻，內部有氣泡等缺陷，并且材料損耗多，成本較高；為此，亟需一種全新的高密度金屬靶材制備工藝。

發明內容

本發明的目的在于克服上述不足，提供一種高密度金屬靶材制備工藝，其能夠在密閉低壓環境下進行噴涂，從而節約材料且保證靶材的噴涂質量。

本發明的目的是這樣實現的：

一種高密度金屬靶材制備工藝，所述工藝為：將靶材放置于靶材驅動總成上后，先對噴涂密封艙抽真空使得艙內形成壓力為2Pa的密閉真空環境；隨后，靶材驅動總成啟動，驅動靶材旋轉的同時進行左右平移，與此同時，等離子噴槍系統的噴槍開始噴涂對靶材進行噴涂；且在噴涂過程中，紅外溫度傳感器對靶材的表面溫度實時監測，當溫度偏離設定點時，等離子噴槍系統的功率以及其供絲速度隨之調整，從而讓靶材的表面始終保持微熔狀態。

本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，在噴涂時粉塵傳感器將粉塵濃度傳遞至處理器，處理器控制除塵凈化器的伺服電機保證與之匹配的除塵頻率；同時通過真空壓力傳感器和紅外溫度傳感器來調整抽真空機組的輸出功率，確保噴涂過程處于動態平衡。

本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，所述工藝基于一種低真空氛圍靶材制備系統，所述系統包含有噴涂密封艙，所述噴涂密封艙的艙室經過濾器連通至抽真空機組，等離子噴槍系統的噴槍插裝于噴涂密封艙內，所述噴涂密封艙內安裝有靶材驅動總成；

靶材驅動總成包含有位于噴涂密封艙底面上的滑軌，有一滑板滑動行走于滑軌上，滑板內沿其長度方向設置有一螺孔，有一與滑軌平行的絲桿旋置于螺孔內，且安裝于噴涂密封艙底面上的滑移電機驅動絲桿旋轉，從而實現推動滑板水平移動；

所述滑板的右端豎向固定設置有右端板，左端板豎向固定設置于移動板上，所述移動板滑動設置于移動滑軌上，移動滑軌位于滑板上，靶材的兩端通過端頭夾持件分別架設于右端板和左端板上，安裝于滑板上的旋轉電機經端頭夾持件驅動靶材旋轉。

本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，所述噴涂密封艙的艙室的一端經管路連通至除塵凈化器的進氣端，除塵凈化器的出氣端經管路連通至噴涂密封艙的艙室的另一端。

本發明一種高密度金屬靶材制備工藝，所述噴涂密封艙內壁上安裝有粉塵傳感器、紅外溫度傳感器和真空壓力傳感器。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

本發明在密閉低壓狀態下進行噴涂，不但可以減少材料損耗，與空氣氛圍中噴涂相比，密閉低壓狀態下的等離子焰焰流更長、能量更高；從而使得噴涂后的靶材產品氧含量低、密度高；同時由于在密閉環境中進行，且采用過濾循環方式，因此噴涂殘余粉末能及時被除塵器吸走，產品內部所含細微粉塵量減少，從而使得靶材產品內殘余內應力小，報廢率低；有效的提高了產品的良品率。

附圖說明

圖1為本發明一種高密度金屬靶材制備系統的結構示意圖。

其中：

靶材1、端頭夾持件2；