[發(fā)明專(zhuān)利]一種在高溫條件下工作的電離室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911362906.7 | 申請(qǐng)日： | 2019-12-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN111103618B | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-09-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陸雙桐;李彪 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中核控制系統(tǒng)工程有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G01T3/00 | 分類(lèi)號(hào)： | G01T3/00;G01T3/02;G21C17/00 |
| 代理公司： | 核工業(yè)專(zhuān)利中心 11007 | 代理人： | 張雅丁 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 高溫 條件下 工作 電離室 | ||
1.一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：包括主體外殼(1)、芯子組件(2)、上絕緣陶瓷(3)、保護(hù)環(huán)(4)、減震彈簧(5)、底座(6)、頂蓋組件(7)、連接筒(8)、電纜連接盤(pán)基座組件(9)、無(wú)機(jī)鎧裝電纜組件(10)、電纜接插件(11)、鎳絲(12)；
電離室一共有兩個(gè)密閉腔體，一個(gè)是密閉的主體外殼(1)，一個(gè)是密閉的連接筒(8)；
工作氣體密封在主體外殼(1)內(nèi)，保護(hù)氣體密封在連接筒(8)內(nèi)，待探測(cè)的電流信號(hào)產(chǎn)生于主體外殼(1)內(nèi)的芯子組件(2)中；
芯子組件(2)設(shè)置在主體外殼(1)內(nèi)；
上絕緣陶瓷(3)設(shè)置在芯子組件(2)前端；
減震彈簧(5)設(shè)置在芯子組件(2)下部；
頂蓋組件(7)設(shè)置在主體外殼(1)前端；
底座(6)設(shè)置在主體外殼(1)后端；
芯子組件(2)為平板型結(jié)構(gòu)，包括支撐桿(2-1)、支撐桿螺母(2-2)、電極片(2-3)固定管(2-4)、下支撐陶瓷(2-5)；用支撐桿螺母(2-2)將固定管(2-4)、電極片(2-3)、支撐桿(2-1)擰緊固定；
芯子組件(2)中，同一極性的電極片通過(guò)支撐桿(2-1)、固定管(2-4)進(jìn)行電連接；
兩個(gè)相對(duì)的支撐桿(2-1)為同一極性；
支撐桿(2-1)的上端和下端分別通過(guò)陶瓷與保護(hù)環(huán)(4)、底座(6)絕緣連接；
支撐桿(2-1)的上端通過(guò)引出絲連接至頂蓋組件(7)的引出管，用氬弧焊將支撐桿(2-1)的引出絲與頂蓋組件(7)的引出管焊死密封；
支撐桿(2-1)的上端通過(guò)上絕緣陶瓷(3)與保護(hù)環(huán)(4)絕緣連接；
芯子組件(2)通過(guò)下支撐陶瓷(2-5)定位安裝于底座(6)上；
下支撐陶瓷(2-5)的下方設(shè)置減震彈簧(5)；
頂蓋組件(7)與電纜連接盤(pán)基座組件(9)焊接密封；
電纜連接盤(pán)基座組件(9)與無(wú)機(jī)鎧裝電纜組件(10)的一端焊接密封；
無(wú)機(jī)鎧裝電纜組件(10)的另一端安裝電纜接插件(11)；
電離室內(nèi)部的信號(hào)線均采用鎳絲(12)進(jìn)行連接。
2.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)中，電極片(2-3)為表面涂硼的不銹鋼，涂硼層質(zhì)量厚度小于1mg/cm2。
3.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)中，電極片(2-3)包括高壓電極與收集電極兩種電極片；相鄰的電極片之間通過(guò)工作氣體進(jìn)行絕緣；電極片上開(kāi)孔2N個(gè)，N≥2，包括N個(gè)孔徑為D1的小孔和N個(gè)孔徑為D2的大孔，D1＜D2；其中小孔的孔徑D1＞支撐桿外徑，大孔的孔徑D2＞固定管的外徑。
4.如權(quán)利要求3所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)中，不同極性的電極片通過(guò)穿過(guò)電極片的大孔而與其他極性電極片絕緣。
5.如權(quán)利要求3所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)中，高壓電極與收集電極間距通過(guò)固定管(2-4)調(diào)節(jié)。
6.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)作為探測(cè)靈敏區(qū)，支撐桿(2-1)的外徑小于固定管(2-4)的內(nèi)徑。
7.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：上絕緣陶瓷(3)的內(nèi)徑大于支撐桿(2-1)的外徑，支撐桿(2-1)的外徑小于保護(hù)環(huán)(4)的開(kāi)孔內(nèi)徑。
8.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：底座(6)的開(kāi)孔角度與電極片一致；底座(6)的開(kāi)孔內(nèi)徑大于下支撐陶瓷(2-5)的外徑；減震彈簧(5)的外徑小于底座開(kāi)孔內(nèi)徑。
9.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：上絕緣陶瓷(3)的材料為高鋁氧化鋁陶瓷；減震彈簧(5)的材料為InconelX-750高溫合金。
10.如權(quán)利要求1所述的一種在高溫條件下工作的電離室，其特征在于：芯子組件(2)中，電極片(2-3)為表面涂硼的不銹鋼，涂硼層質(zhì)量厚度小于1mg/cm2；
電極片(2-3)包括高壓電極與收集電極兩種電極片；相鄰的電極片之間通過(guò)工作氣體進(jìn)行絕緣；電極片上開(kāi)孔2N個(gè)，N≥2，包括N個(gè)孔徑為D1的小孔和N個(gè)孔徑為D2的大孔，D1＜D2；其中小孔的孔徑D1＞支撐桿外徑，大孔的孔徑D2＞固定管的外徑；
不同極性的電極片通過(guò)穿過(guò)電極片的大孔而與其他極性電極片絕緣；
高壓電極與收集電極間距通過(guò)固定管(2-4)調(diào)節(jié)；
芯子組件(2)作為探測(cè)靈敏區(qū)，支撐桿(2-1)的外徑小于固定管(2-4)的內(nèi)徑；
上絕緣陶瓷(3)的內(nèi)徑大于支撐桿(2-1)的外徑，支撐桿(2-1)的外徑小于保護(hù)環(huán)(4)的開(kāi)孔內(nèi)徑；
底座(6)的開(kāi)孔角度與電極片一致；底座(6)的開(kāi)孔內(nèi)徑大于下支撐陶瓷(2-5)的外徑；減震彈簧(5)的外徑小于底座開(kāi)孔內(nèi)徑；
上絕緣陶瓷(3)的材料為高鋁氧化鋁陶瓷；減震彈簧(5)的材料為Inconel X-750高溫合金。
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