[發(fā)明專利]基板處理裝置、搬運(yùn)模塊及連結(jié)模塊

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911356069.7
• 申請(qǐng)日: 2019-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN111383976A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高山祐一;橋本光治;菊本憲幸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類號(hào): H01L21/677
• 分類號(hào): H01L21/677;H01L21/67
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 閆劍平

1.一種基板處理裝置，其對(duì)基板進(jìn)行處理，所述基板處理裝置的特征在于，包括：

第1處理模塊，其具有針對(duì)所述基板進(jìn)行規(guī)定處理的第1規(guī)定處理單元及臨時(shí)保持所述基板的第1交接部；

基板供給部，其配置在所述第1處理模塊的第1方向側(cè)，從所述第1方向側(cè)向所述第1交接部供給所述基板；以及

搬運(yùn)模塊，其配置在所述第1處理模塊的與所述第1方向相反的第2方向側(cè)，具有從所述第1交接部沿所述第2方向搬出所述基板并搬入至所述第1規(guī)定處理單元的第1搬運(yùn)裝置，

所述搬運(yùn)模塊包含：

框架，其規(guī)定供所述第1搬運(yùn)裝置載置于內(nèi)部的載置空間；

第1底板部，其配置在所述載置空間的內(nèi)側(cè)，并設(shè)置有所述第1搬運(yùn)裝置的基臺(tái)部；

第2底板部，其在所述載置空間的內(nèi)側(cè)，相比于所述第1底板部而配置在作為與所述第1方向正交的水平方向的第3方向側(cè)；以及

出入口部，其相比于所述第2底板部而設(shè)置在所述第3方向側(cè)，使所述載置空間與所述框架的外部連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的基板處理裝置，其特征在于，

所述第1搬運(yùn)裝置包括：

保持所述基板的手部；以及

鉛垂驅(qū)動(dòng)部，其包含使所述手部沿鉛垂方向移動(dòng)的鉛垂馬達(dá)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的基板處理裝置，其特征在于，

所述第1底板部相比于所述第2底板部而設(shè)置在鉛垂方向的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3的基板處理裝置，其特征在于，

所述第1搬運(yùn)裝置包含水平驅(qū)動(dòng)部，該水平驅(qū)動(dòng)部包含使所述手部相對(duì)于基臺(tái)部在水平方向上向遠(yuǎn)離或接近的方向移動(dòng)的移動(dòng)馬達(dá)，

所述第1底板部相比于所述第1交接部而設(shè)置在與所述第3方向相反一側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4的基板處理裝置，其特征在于，

所述第1規(guī)定處理單元具有向所述基板供給流體的噴嘴。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的基板處理裝置，其特征在于，

還具有向所述噴嘴供給所述流體的供給配管，該供給配管橫跨所述搬運(yùn)模塊及所述第1處理模塊而配置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6的基板處理裝置，其特征在于，

還具有在內(nèi)側(cè)供所述供給配管穿插的筒狀的波紋管部件，

所述第1處理模塊具有供所述供給配管配設(shè)的第1配管室，

所述搬運(yùn)模塊具有供所述供給配管配設(shè)的第2配管室，

所述波紋管部件的一端側(cè)的開口部與所述第1配管室連結(jié)，另一端側(cè)的開口部與所述第2配管室連結(jié)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，

相比于所述第2底板部而在下方設(shè)有供給所述流體的配管連接口。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，包含：

第2處理模塊，其配置在所述搬運(yùn)模塊的所述第2方向側(cè)，具有臨時(shí)保持由所述第1搬運(yùn)裝置從所述第1方向側(cè)搬入的所述基板的第2交接部及對(duì)所述基板進(jìn)行規(guī)定處理的第2規(guī)定處理單元；

第3處理模塊，其配置在所述第2處理模塊的所述第2方向側(cè)，具有對(duì)所述基板進(jìn)行規(guī)定處理的第3規(guī)定處理單元；以及

第2搬運(yùn)裝置，其在所述第2交接部與所述第2規(guī)定處理單元之間及所述第2交接部與所述第3規(guī)定處理單元之間搬運(yùn)所述基板。