[發(fā)明專利]基板處理裝置、搬運(yùn)模塊及連結(jié)模塊

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911356069.7
• 申請日: 2019-12-25
• 公開（公告）號: CN111383976A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高山祐一;橋本光治;菊本憲幸
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 閆劍平

本發(fā)明提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)處理單元的增設(shè)且容易進(jìn)行搬運(yùn)機(jī)械手的維護(hù)的技術(shù)。第1處理模塊(3A)具有處理單元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盤部分(2)配置在第1處理模塊的?X側(cè)，向第1交接部(PS1)供給基板(W)。搬運(yùn)模塊(3T)配置在第1處理模塊的+X側(cè)，具有從第1交接部沿+X方向搬出基板并向處理單元搬入的第1搬運(yùn)機(jī)械手(CR1)。搬運(yùn)模塊具有維護(hù)室(302T)。在維護(hù)室內(nèi)設(shè)有設(shè)置第1搬運(yùn)機(jī)械手的基臺部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y側(cè)配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y側(cè)設(shè)有使維護(hù)室的內(nèi)側(cè)與外部連通的出入口部(303T)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對基板進(jìn)行處理的基板處理裝置。作為處理對象的基板例如包含半導(dǎo)體基板、液晶顯示裝置及有機(jī)EL(Electroluminescence：電致發(fā)光)顯示裝置等FPD(FlatPanel Display：平板顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板、印刷基板等。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體器件的制造工藝中，使用具有對基板進(jìn)行逐張?zhí)幚淼膯纹教幚韱卧幕逄幚硌b置。另外，為了提高生產(chǎn)效率，使用將多個(gè)處理單元合并而成的基板處理裝置。

專利文獻(xiàn)1的圖1中公開的基板處理裝置作為對基板進(jìn)行搬運(yùn)的搬運(yùn)機(jī)械手包括分度盤機(jī)械手、第1主機(jī)械手和第2主機(jī)械手。這些機(jī)械手沿著一個(gè)方向依次配置。在分度盤機(jī)械手與第1主機(jī)械手之間、第1及第2主機(jī)械手之間分別設(shè)有載置基板的第1及第2載置部。在第1及第2主機(jī)械手各自的兩側(cè)設(shè)有處理單元。分度盤機(jī)械手從盒中取出未處理的基板并向第1載置部搬運(yùn)。第1主機(jī)械手從第1載置部取出基板并向其周圍的處理單元或第2載置部搬運(yùn)。第2主機(jī)械手從第2載置部取出基板并向其周圍的處理單元搬運(yùn)。在各處理單元中完成處理的基板以相反的路線再次返回盒中。

另外，在專利文獻(xiàn)1的圖10中公開的基板處理裝置中省略第2載置部、第2主機(jī)械手及其周圍的處理單元，而由盒載置部、分度盤機(jī)械手、第1載置部、第1主機(jī)械手及其周圍的處理單元構(gòu)成。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2017-183447號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

在專利文獻(xiàn)1的圖1的基板處理裝置中，隔著第2主機(jī)械手在與第2載置部相反一側(cè)設(shè)有開口。操作者能夠經(jīng)由該開口進(jìn)入基板處理裝置內(nèi)而接近第2主機(jī)械手。但是，由于第1主機(jī)械手被第1及第2載置部以及處理單元包圍，因此操作者不易接近第1主機(jī)械手。

另外，在專利文獻(xiàn)1的圖10的基板處理裝置中，隔著第1主機(jī)械手在與第1載置部相反一側(cè)設(shè)有開口。操作者能夠經(jīng)由該開口進(jìn)入基板處理裝置內(nèi)并接近第1主機(jī)械手。但是，在該基板處理裝置的情況下，由于能夠配置處理單元的位置僅限定為第1主機(jī)械手的兩側(cè)，因此處理單元的數(shù)量受到限制。

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)處理單元的增設(shè)并容易進(jìn)行搬運(yùn)機(jī)械手的維護(hù)的技術(shù)。

為了解決上述課題，第1方案為對基板進(jìn)行處理的基板處理裝置，所述基板處理裝置的特征在于，包括：第1處理模塊，其具有針對所述基板進(jìn)行規(guī)定處理的第1規(guī)定處理單元及臨時(shí)保持所述基板的第1交接部；基板供給部，其配置在所述第1處理模塊的第1方向側(cè)，從所述第1方向側(cè)向所述第1交接部供給所述基板；以及搬運(yùn)模塊，其配置在所述第1處理模塊的與所述第1方向相反的第2方向側(cè)，具有從所述第1交接部沿所述第2方向搬出所述基板并搬入至所述第1規(guī)定處理單元的第1搬運(yùn)裝置，所述搬運(yùn)模塊包含：框架，其規(guī)定供所述第1搬運(yùn)裝置載置于內(nèi)部的載置空間；第1底板部，其配置在所述載置空間的內(nèi)側(cè)，并設(shè)置有所述第1搬運(yùn)裝置的基臺部；第2底板部，其在所述載置空間的內(nèi)側(cè)，相比于所述第1底板部而配置在作為與所述第1方向正交的水平方向的第3方向側(cè)；以及出入口部，其相比于所述第2底板部而設(shè)置在所述第3方向側(cè)，使所述載置空間與所述框架的外部連通。