[發明專利]聚合物和硬掩模組合物以及形成圖案的方法有效
| 申請號: | 201911356022.0 | 申請日: | 2019-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN111378084B | 公開(公告)日: | 2023-08-08 |
| 發明(設計)人: | 樸昭姸;金永珉;兪龍植 | 申請(專利權)人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | C08G12/26 | 分類號: | C08G12/26;G03F7/004;G03F7/00;G03F7/11 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道龍仁*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚合物 模組 以及 形成 圖案 方法 | ||
1.一種聚合物,包括:
結構單元,通過反應混合物的反應獲得,
所述反應混合物包括:
經取代或未經取代的吲哚或其衍生物,
第一芳香族醛化合物,在末端處具有經取代或未經取代的C3到C20支鏈烷基,以及
第二芳香族醛化合物,與所述第一芳香族醛化合物不同,
其中所述第二芳香族醛化合物包括經至少一個羥基取代的C6到C30芳香族環,且
其中所述第二芳香族醛化合物包括稠環。
2.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述吲哚或所述其衍生物由化學式1表示:
[化學式1]
其中,在化學式1中,
Z1是氫、羥基、鹵素原子、經取代或未經取代的C1到C30烷氧基、經取代或未經取代的C1到C30烷基、經取代或未經取代的C1到C30環烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基、經取代或未經取代的C2到C30炔基、經取代或未經取代的C6到C30芳基、經取代或未經取代的C1到C30雜烷基、經取代或未經取代的C2到C30雜環基或其組合,
Z2和Z3獨立地是羥基、鹵素原子、經取代或未經取代的C1到C30烷氧基、經取代或未經取代的C1到C30烷基、經取代或未經取代的C1到C30環烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基、經取代或未經取代的C2到C30炔基、經取代或未經取代的C6到C30芳基、經取代或未經取代的C1到C30雜烷基、經取代或未經取代的C2到C30雜環基或其組合,
m是0到4的整數,且
n是0到2的整數。
3.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述經取代或未經取代的C3到C20支鏈烷基是經取代或未經取代的叔丁基。
4.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述第一芳香族醛化合物包括選自族群1的經取代或未經取代的芳香族環中的至少一種:
[族群1]
5.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述第一芳香族醛化合物是經C3到C20支鏈烷基取代的苯甲醛、經C3到C20支鏈烷基取代的萘甲醛、經C3到C20支鏈烷基取代的蒽甲醛或經C3到C20支鏈烷基取代的芘甲醛。
6.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述第二芳香族醛化合物包括選自族群2的經至少一個羥基取代的芳香族環中的至少一種:
[族群2]
7.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述第一芳香族醛化合物包括稠環。
8.根據權利要求1所述的聚合物,其中所述第一芳香族醛化合物包括經C3到C20支鏈烷基取代的苯甲醛、經C3到C20支鏈烷基取代的萘甲醛、經C3到C20支鏈烷基取代的蒽甲醛或經C3到C20支鏈烷基取代的芘甲醛,且
所述第二芳香族醛化合物是經至少一個羥基取代的芘甲醛。
9.根據權利要求1所述的聚合物,其中按所述吲哚或所述其衍生物、所述第一芳香族醛化合物以及所述第二芳香族醛化合物的總摩爾數計,以1摩爾%到50摩爾%的量包含所述吲哚或所述其衍生物,
按所述吲哚或所述其衍生物、所述第一芳香族醛化合物以及所述第二芳香族醛化合物的總摩爾數計,以1摩爾%到80摩爾%的量包含所述第一芳香族醛化合物,且
按所述吲哚或所述其衍生物、所述第一芳香族醛化合物以及所述第二芳香族醛化合物的總摩爾數計,以1摩爾%到80摩爾%的量包含所述第二芳香族醛化合物。
10.一種硬掩模組合物,包括:
根據權利要求1到權利要求9中任一項所述的聚合物,以及
溶劑。
11.一種形成圖案的方法,包括:
將根據權利要求10所述的硬掩模組合物涂覆于材料層上且對所述硬掩模組合物進行熱處理以形成硬掩模層,
在所述硬掩模層上形成光刻膠層,
使所述光刻膠層曝光且顯影以形成光刻膠圖案,
使用所述光刻膠圖案選擇性地去除所述硬掩模層以暴露所述材料層的一部分,以及
刻蝕所述材料層的暴露部分。
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