[發明專利]薄膜晶體管的圖案制作方法、薄膜晶體管以及光罩

有效

• 申請號: 201911354912.8
• 申請日: 2019-12-25
• 公開（公告）號: CN111128878B
• 公開（公告）日: 2022-07-12
• 發明（設計）人: 鐘舒婷;張寧
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368;G03F1/00;G03F7/20
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

薄膜晶體管的圖案制作方法、薄膜晶體管以及光罩。本申請公開一種TFT的圖案制作方法以及光罩，用于使光通過位于TFT上方的光罩上設置的與TFT位置對應的孔，在TFT上產生兩種及以上光阻疊加，抵消半導體AS層上的反射光，保證TFT正常工作。本申請實施例方法包括：TFT接收噴涂裝置涂布第一光阻；TFT通過第一類型的光罩接收第一次曝光；TFT進行第一次顯影形成第一圖案；TFT接收噴涂裝置在第一圖案上涂布第二光阻；TFT通過第二類型的光罩接收第二次曝光；TFT進行第二次顯影形成第二圖案；TFT接收噴涂裝置在第二圖案上涂布第三光阻；TFT通過第三類型的光罩接收第三次曝光；TFT進行第三次顯影形成目標圖案，其中在三種類型的其中兩個類型中，在兩列像素的遮光層上，至少有一列像素的遮光層上開設有孔。

技術領域

本申請涉及液晶顯示技術領域，具體涉及一種薄膜晶體管的圖案的制作方法、薄膜晶體管以及光罩。

背景技術

光罩由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已制作好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上，被曝光的區域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光罩。光罩的生產加工工序為：曝光，顯影，去感光膠，最后應用于光蝕刻。而其中，薄膜晶體管(Thin film transistor,TFT)為薄膜晶體管液晶顯示器(Thin film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)的陣列基板上的TFT區域。TFT-LCD的面板可視為兩片玻璃基板中間夾著一層液晶，上層的玻璃基板是彩色濾光片，而下層的玻璃則有晶體管鑲嵌在玻璃上。上層玻璃因與彩色濾光片貼合，形成每個像素各包含紅藍綠三顏色的子像素，這些發出紅藍綠色彩的像素便構成了面板上的視頻畫面。

目前已知的TFT的圖案制作方法中，在TFT上方覆蓋有光罩，該光罩通常由覆蓋在至少兩組像素色塊上的子光罩組成，每組像素色塊由紅(R)、綠(G)、藍(B)色各一列子像素組合而成，并且，光罩由3N個相鄰的不同時點接收曝光裝置曝光時對應的三種類型構成，其中，N≥1，該方法包括如下步驟：

S1：TFT接收噴涂裝置涂布第一光阻；

S2：TFT通過第一類型的光罩接收曝光裝置的第一次曝光，該第一類型為在像素色塊中，第一列子像素上方無遮光層，第二列子像素和第三列子像素上方均有遮光層；

S3：TFT進行第一次顯影，形成第一圖案；

S4：TFT接收噴涂裝置在第一圖案上涂布第二光阻；

S5：TFT通過第二類型的光罩接收曝光裝置的第二次曝光，該第二類型為第二列子像素上方無遮光層，第一列子像素和第二列子像素上方均有遮光層；

S6：TFT進行第二次顯影，形成第二圖案；

S7：TFT接收噴涂裝置在第二圖案上涂布第三光阻；

S8：TFT通過第三類型的光罩接收曝光裝置的第三次曝光，該第三類型為第三列子像素上方無遮光層，第一列子像素和第二列子像素上方均有遮光層；

S9：TFT進行第三次顯影，形成目標圖案。