[發(fā)明專利]COA基板及液晶顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911348577.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111061103B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張琪;曹武 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 呂姝娟 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | coa 液晶顯示 面板 | ||
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種COA基板及液晶顯示面板,所述COA基板由多條縱橫交錯(cuò)的數(shù)據(jù)線和掃描線,以及由所述數(shù)據(jù)線與所述掃描線組成的像素單元;所述像素單元分為:像素單元的開(kāi)口區(qū)和像素單元的非開(kāi)口區(qū);所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)設(shè)置有:所述數(shù)據(jù)線、所述掃描線、晶體管部、DBS公共電極走線以及電性連接所述晶體管部的像素過(guò)孔,所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線繞開(kāi)所述像素過(guò)孔;有益效果為:本申請(qǐng)?zhí)峁┑腃OA基板,通過(guò)將所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線繞開(kāi)所述像素過(guò)孔,避免所述像素過(guò)孔處的像素電極與所述DBS公共電極走線接觸,出現(xiàn)短路。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及通信技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種COA基板及液晶顯示面板。
背景技術(shù)
Multi-domain alignment liquid crystal displays(MVA LCDs,多域取向液晶顯示器)憑借其高對(duì)比和廣視角的優(yōu)勢(shì)在大尺寸液晶顯示面板中得到了廣泛的應(yīng)用。隨著屏幕尺寸向大屏化的逐步演化,八域的像素設(shè)計(jì)以其優(yōu)異的視角表現(xiàn)而在大尺寸顯示器中受到重視,但像素尺寸細(xì)化和域數(shù)的增加嚴(yán)重導(dǎo)致了面板穿透率的降低,而DBS(Data LineBM Less,數(shù)據(jù)線上方無(wú)黑色矩陣)技術(shù)的出現(xiàn)使得穿透率得到了很好的提升。
在COA(Color Film On Array,設(shè)置有彩膜層的COA基板)基板中,像素尺寸較小時(shí),無(wú)法實(shí)現(xiàn)封閉式的像素過(guò)孔結(jié)構(gòu),所述像素過(guò)孔的形狀為半開(kāi)口狀,使得在同一孔內(nèi)出現(xiàn)像素電極與DBS走線兩種結(jié)構(gòu)。由于色阻層較厚,采用光刻膠照射時(shí),部分色阻層容易造成堆積,導(dǎo)致像素過(guò)孔上殘留有DBS走線,使得所述像素過(guò)孔與所述DBS走線發(fā)生短路的情況。
因此,現(xiàn)有的液晶顯示面板技術(shù)中,還存在著液晶顯示面板內(nèi)的所述DBS走線容易殘留在所述像素過(guò)孔上,造成所述像素過(guò)孔與所述DBS走線短路的問(wèn)題,急需改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種COA基板及液晶顯示面板,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中存在著的液晶顯示面板內(nèi)的所述DBS走線容易殘留在所述像素過(guò)孔上,造成所述像素過(guò)孔與所述DBS走線短路的問(wèn)題。
本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種COA基板,所述COA基板由多條縱橫交錯(cuò)的數(shù)據(jù)線和掃描線,以及由所述數(shù)據(jù)線與所述掃描線組成的像素單元;所述像素單元分為:像素單元的開(kāi)口區(qū)和像素單元的非開(kāi)口區(qū);所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)設(shè)置有:所述數(shù)據(jù)線、所述掃描線、晶體管部、DBS公共電極走線以及電性連接所述晶體管部的像素過(guò)孔,所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線繞開(kāi)所述像素過(guò)孔,避免所述像素過(guò)孔處的像素電極與所述DBS公共電極走線接觸,出現(xiàn)短路。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的形狀為“Z”字形,所述“Z”字形的兩條邊平行于所述掃描線。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的形狀為鋸齒形,所述鋸齒形的開(kāi)口正對(duì)于所述像素過(guò)孔。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的形狀為弧形,所述弧形的開(kāi)口正對(duì)于所述像素過(guò)孔。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的寬度小于所述DBS公共電極走線在所述像素單元的開(kāi)口區(qū)內(nèi)的寬度,且所述像素單元的非開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線遠(yuǎn)離所述像素過(guò)孔的一側(cè)與所述像素單元的開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線遠(yuǎn)離所述像素過(guò)孔的一側(cè)位于同一條直線。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述像素單元開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線平行于所述數(shù)據(jù)線進(jìn)行設(shè)置,且所述DBS公共電極走線的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度,即所述像素單元開(kāi)口區(qū)內(nèi)的所述數(shù)據(jù)線的兩側(cè)均不超過(guò)所述DBS公共電極走線投影的兩側(cè)。
在本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊粚?shí)施例中,所述DBS公共電極走線、主像素電極和子像素電極的材料均采用金屬氧化物氧化銦錫。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





