[發(fā)明專利]COA基板及液晶顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911348577.0 | 申請日: | 2019-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN111061103B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張琪;曹武 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 呂姝娟 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | coa 液晶顯示 面板 | ||
1.一種COA基板,其特征在于,所述COA基板由多條縱橫交錯的數(shù)據(jù)線和掃描線,以及由所述數(shù)據(jù)線與所述掃描線組成的像素單元;
所述像素單元分為:像素單元的開口區(qū)和像素單元的非開口區(qū);
所述像素單元的開口區(qū)內(nèi)設(shè)置有:主區(qū)像素電極和次區(qū)像素電極;
所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)設(shè)置有:所述數(shù)據(jù)線、所述掃描線、晶體管部、DBS公共電極走線以及電性連接所述晶體管部的像素過孔,所述多條數(shù)據(jù)線的上方還覆蓋有遮擋所述多條數(shù)據(jù)線的DBS公共電極走線,所述DBS公共電極走線與所述主區(qū)像素電極和所述次區(qū)像素電極同層設(shè)置并相互間隔,所述DBS公共電極走線用于接入COA基板公共電壓,以控制與所述DBS公共電極走線的位置對應(yīng)的液晶分子保持不偏轉(zhuǎn)的狀態(tài),所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線繞開所述像素過孔,避免所述像素過孔處的像素電極與所述DBS公共電極走線接觸,出現(xiàn)短路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的形狀為“Z”字形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的形狀為鋸齒形,所述鋸齒形的開口正對于所述像素過孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的形狀為弧形,所述弧形的開口正對于所述像素過孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述DBS公共電極走線在所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的寬度小于所述DBS公共電極走線在所述像素單元的開口區(qū)內(nèi)的寬度,且所述像素單元的非開口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線遠離所述像素過孔的一側(cè)與所述像素單元的開口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線遠離所述像素過孔的一側(cè)位于同一條直線。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述像素單元開口區(qū)內(nèi)的所述DBS公共電極走線平行于所述數(shù)據(jù)線進行設(shè)置,且所述DBS公共電極走線的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度,即所述像素單元開口區(qū)內(nèi)的所述數(shù)據(jù)線的兩側(cè)均不超過所述DBS公共電極走線投影的兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的COA基板,其特征在于,所述DBS公共電極走線、所述主區(qū)像素電極和所述次區(qū)像素電極的材料均采用金屬氧化物氧化銦錫。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板,其特征在于,所述掃描線平行于所述像素單元的非開口區(qū),異面垂直于所述數(shù)據(jù)線進行設(shè)置。
9.一種液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板包括:第一基板、第二基板以及設(shè)置在所述第一基板與所述第二基板之間的液晶層,所述第一基板采用上述權(quán)利要求1-8任一項所述的COA基板。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第二基板上設(shè)置有黑色矩陣,所述黑色矩陣平行于所述掃描線,即所述黑色矩陣平行于像素單元的非開口區(qū)進行設(shè)置。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





