[發(fā)明專利]襯底處理裝置、載具搬送方法及載具緩沖裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911348442.4 | 申請日: | 2019-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN111508881A | 公開(公告)日: | 2020-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 桑原丈二 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社斯庫林集團(tuán) |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 陳甜甜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 襯底 處理 裝置 載具搬送 方法 緩沖 | ||
本發(fā)明涉及一種襯底處理裝置、載具搬送方法及載具緩沖裝置。載具搬送機(jī)構(gòu)(51)在2個開啟機(jī)構(gòu)(9、10)的載置臺(13)與多個載具保管架(53)之間搬送載具(C)。多個載具保管架(53)及載具搬送機(jī)構(gòu)(51)分別搭載在第1處理塊(3)之上。因此,也可以不像以往那樣從裝載塊在水平方向上延長地設(shè)置多個載具保管架(53)及載具搬送機(jī)構(gòu)(51),能夠削減在水平方向上延長的設(shè)置面積。即,能夠減小襯底處理裝置(1)的占據(jù)面積。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種對襯底進(jìn)行處理的襯底處理裝置、載具搬送方法及載具緩沖裝置。襯底例如可以列舉半導(dǎo)體襯底、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)用襯底、光掩模用襯底、光盤用襯底、磁盤用襯底、陶瓷襯底及太陽電池用襯底等。FPD例如可以列舉液晶顯示裝置、有機(jī)EL(electroluminescence,電致發(fā)光)顯示裝置等。
背景技術(shù)
以往的襯底處理裝置具備襯底處理裝置主體及載具緩沖裝置(存放裝置)(例如參照日本專利特開2011-187796號公報)。襯底處理裝置主體具備裝載塊及處理塊。處理塊在水平方向上與裝載塊連結(jié)。裝載塊內(nèi)置著襯底搬送機(jī)械手。在裝載塊的外壁設(shè)有載具載置臺。載具載置臺供載置能夠收納多個襯底的載具。載具載置臺隔著搬送機(jī)械手設(shè)于處理塊的相反側(cè)。
載具緩沖裝置具備保管載具的多個載具保管架及載具搬送機(jī)構(gòu)。載具搬送機(jī)構(gòu)以在多個載具保管架與載具載置臺之間搬送載具的方式構(gòu)成。
發(fā)明內(nèi)容
[發(fā)明要解決的問題]
以往的載具緩沖裝置配置為隔著裝載塊處于處理塊的相反側(cè),即在水平方向上從裝載塊延長到載具載置臺側(cè)。這種以往的載具緩沖裝置有可能導(dǎo)致襯底處理裝置的設(shè)置面積即占據(jù)面積變大。
本發(fā)明是鑒于這種情況完成的,目的在于提供一種能夠減小襯底處理裝置的占據(jù)面積的襯底處理裝置、載具搬送方法及載具緩沖裝置。
[解決問題的技術(shù)手段]
本發(fā)明為了達(dá)成這種目的,采用如下構(gòu)成。即,本發(fā)明的對襯底進(jìn)行處理的襯底處理裝置包含以下要素:第1裝載塊,設(shè)有用于載置能夠收納多個襯底的載具的至少1個第1載具載置臺;第1處理塊,在水平方向上與所述第1裝載塊連結(jié);多個載具保管架,搭載在所述第1裝載塊及所述第1處理塊中的至少一個之上,分別保管所述載具;及載具搬送機(jī)構(gòu),搭載在所述第1裝載塊及所述第1處理塊中的至少一個之上,在所述至少1個第1載具載置臺與所述多個載具保管架之間搬送所述載具。
根據(jù)本發(fā)明的襯底處理裝置,載具搬送機(jī)構(gòu)在至少1個第1載具載置臺與多個載具保管架之間搬送載具。多個載具保管架及載具搬送機(jī)構(gòu)分別搭載在第1裝載塊及第1處理塊中的至少任一個之上。因此,也可以不從裝載塊在水平方向上延長地設(shè)置多個載具保管架及載具搬送機(jī)構(gòu),能夠削減在水平方向上延長的設(shè)置面積。即,能夠減小襯底處理裝置的占據(jù)面積。
另外,在所述襯底處理裝置中,優(yōu)選所述第1處理塊包含配置成1列的多個處理塊,所述第1裝載塊在水平方向上與所述多個處理塊中的一端的第1處理塊連結(jié),所述多個載具保管架搭載在所述第1裝載塊及所述多個處理塊中的至少任一個之上,分別保管所述載具,所述載具搬送機(jī)構(gòu)搭載在所述第1裝載塊及所述多個處理塊中的至少任一個之上,在所述至少1個第1載具載置臺與所述多個載具保管架之間搬送所述載具。
由此,對于具備配置成1列的多個處理塊的襯底處理裝置,能夠減小襯底處理裝置的占據(jù)面積。
另外,在所述襯底處理裝置中,優(yōu)選還具備第2裝載塊,該第2裝載塊在水平方向上與所述多個處理塊中的另一端的處理塊連結(jié),且設(shè)有用于載置所述載具的至少1個第2載具載置臺,所述多個載具保管架搭載在所述第1裝載塊、所述多個處理塊及所述第2裝載塊中的至少任一個之上,分別保管所述載具,所述載具搬送機(jī)構(gòu)搭載在所述第1裝載塊、所述多個處理塊及所述第2裝載塊中的至少任一個之上,在所述至少1個第1載具載置臺、所述多個載具保管架及所述至少1個第2載具載置臺之間搬送所述載具。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





