[發(fā)明專(zhuān)利]一種水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911342701.2
• 申請(qǐng)日: 2019-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110878408A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高瑞三;林志榮;高大鈞;詹奇峯
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 眾鼎瑞展電子科技（深圳）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 廣州市紅荔專(zhuān)利代理有限公司 44214
• 代理人: 李彥孚

1.一種水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：包括底架、主電控單元和依次設(shè)置在底架上的進(jìn)出片區(qū)、等離子放電腔體、緩沖腔體和鍍膜制程腔體；

所述進(jìn)出片區(qū)、等離子放電腔體和鍍膜制程腔體內(nèi)分別設(shè)置有導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌上設(shè)置有運(yùn)載車(chē)；

所述進(jìn)出片區(qū)、等離子放電腔體、緩沖腔體和鍍膜制程腔體兩兩之間設(shè)置有可控門(mén)；

所述等離子放電腔體內(nèi)開(kāi)設(shè)有抽氣孔，所述抽氣孔通過(guò)管道連接抽氣泵；

所述主電控單元分別電氣連接抽氣泵、可控門(mén)和運(yùn)載車(chē)。

2.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述鍍膜制程腔體遠(yuǎn)離緩沖腔體的一側(cè)設(shè)置有輔助緩沖腔體。

3.如權(quán)利要求2所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述底架底部設(shè)置有滑輪。

4.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述等離子放電腔體內(nèi)設(shè)置有溫度傳感器和氣壓傳感器，所述溫度傳感器和氣壓傳感器分別電氣連接所述主電控單元。

5.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述進(jìn)出片區(qū)、等離子放電腔體、緩沖腔體和鍍膜制程腔體內(nèi)分別設(shè)置有多個(gè)用于檢測(cè)基板是否到達(dá)相應(yīng)位置的紅外感應(yīng)探頭，所述紅外感應(yīng)探頭電氣連接所述主電控單元。

6.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述鍍膜制程腔體包括兩個(gè)連續(xù)設(shè)置的濺鍍腔體，所述濺鍍腔體內(nèi)設(shè)置有濺射靶。

7.如權(quán)利要求6所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述濺射靶上設(shè)置有溫度傳感器和火花傳感器，所述溫度傳感器和火花傳感器分別電氣連接所述主電控單元。

8.如權(quán)利要求7所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述濺射靶上還設(shè)置有功率計(jì)數(shù)傳感器，所述功率計(jì)數(shù)傳感器電氣連接所述主電控單元。

9.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述進(jìn)去片區(qū)和等離子放電腔體內(nèi)的導(dǎo)軌為兩個(gè)相互平行的移動(dòng)導(dǎo)軌，所述移動(dòng)導(dǎo)軌連接氣缸，所述氣缸電氣連接所述主電控單元。

10.如權(quán)利要求1所述的水平立式磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述主電控單元電氣連接有控制PC。