[發明專利]基板對位裝置及方法、掩膜板、晶圓基板

在審

• 申請號: 201911342679.1
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN113097422A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 張耀輝;丁熙榮
• 申請（專利權）人: 合肥欣奕華智能機器有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本公開提供了一種基板對位裝置及方法、掩膜板、晶圓基板，涉及顯示技術領域，用于解決光學對位方式無法實現非透明基板與掩膜板對位的問題。其中基板對位裝置包括：掩膜板調節部件，承載并調整掩膜板的位置，掩膜板上設置有鏤空結構的第一對位標記；基板調節部件，承載并調整待對位基板的位置，待對位基板上設置有鏤空結構或凹槽結構的第二對位標記，第一對位標記的正投影能夠覆蓋第二對位標記，掩膜板位于待對位基板第一側；紅外光源，用于發出紅外光，從掩膜板遠離待對位基板的一側入射，經第一對位標記投射至待對位基板；圖像傳感器，設置于待對位基板第二側，獲取待對位基板的圖像。該基板對位裝置用于非透明基板與掩膜板對位。

技術領域

本公開涉及顯示技術領域，尤其涉及一種基板對位裝置及方法、掩膜板、晶圓基板。

背景技術

在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極管)顯示面板的制程中，需要通過蒸鍍等工藝，在待蒸鍍基板上形成有機發光材料層。在蒸鍍之前，待蒸鍍基板需要先與掩膜板對位。現有技術中，待蒸鍍基板為透明的玻璃基板，因此可通過光學對位方式，利用圖像采集裝置(例如，光學攝像頭等)透過玻璃基板采集掩膜板上對位標記的圖像，而后通過調整待蒸鍍基板和掩膜板之間的相對位置，使待蒸鍍基板上的對位標記與掩膜板上的對位標記的對位，實現待蒸鍍基板與掩膜板的對位。該種光學對位方式操作簡單，且對位精度較高。

然而，對于非透明的待蒸鍍基板，例如晶圓(Wafer)基板，圖像采集裝置無法透過非透明的待蒸鍍基板采集到掩膜板的對位標記的圖像，因此通過如上的光學對位方式，無法實現待蒸鍍基板與掩膜板的對位。

發明內容

針對上述現有技術中的問題，本公開的實施例提供一種基板對位裝置及方法、掩膜板、晶圓基板，以解決現有技術中的光學對位方式無法實現非透明的基板與掩膜板的對位的問題。

為達到上述目的，本公開的實施例采用如下技術方案：

第一方面，本公開的實施例提供了一種基板對位裝置，包括：掩膜板調節部件，用于承載掩膜板，并調整所述掩膜板的位置，所述掩膜板上設置有鏤空結構的第一對位標記；基板調節部件，用于承載待對位基板，并調整所述待對位基板的位置，所述待對位基板上設置有鏤空結構或凹槽結構的第二對位標記，且所述第一對位標記在所述待對位基板上的正投影能夠覆蓋所述第二對位標記，所述待對位基板具有相對的第一側和第二側，在進行對位的過程中，所述掩膜板位于所述待對位基板的第一側；紅外光源，用于發出紅外光，在進行對位的過程中，所述紅外光從所述掩膜板的遠離所述待對位基板的一側入射，經所述第一對位標記，投射至所述待對位基板；圖像傳感器，設置于所述待對位基板的第二側，用于獲取所述待對位基板的圖像。

在使用上述基板對位裝置對掩膜板和待對位基板進行對位的過程中，掩膜板上第一對位標記以外的部分為金屬材質，能夠阻擋紅外光穿透，紅外光能夠從鏤空的第一對位標記處穿過并投射至另一側的待對位基板，繼而在待對位基板的第二側的表面上形成紅外投影，該紅外投影的輪廓與第一對位標記相對應。調整待對位基板和/或掩膜板的位置，使第二對位標記至少部分處于紅外投影范圍內，由于待對位基板的與第二對位標記對應的部分的厚度與其周圍的部分的厚度不同，從而使紅外投影內形成明暗程度不同的部分。這樣，采集待對位基板的第二側的表面的圖像，通過圖像中紅外投影中明暗程度不同的各部分之間的位置關系，或通過圖像中紅外投影與第二對位標記的位于待對位基板的第二側的表面上的開口的位置關系，能夠確定第一對位標記和第二對位標記之間的位置偏差，并據此調整掩膜板與待對位基板的相對位置，使第二對位標記完全處于紅外投影的范圍內，從而實現掩膜板和不透明的待對位基板的準確對位。

基于上述技術方案，在一些實施例中，所述紅外光源設置于所述待對位基板的第二側；所述基板對位裝置還包括設置于所述掩膜板的遠離所述待對位基板的一側的反射部件，所述反射部件用于，將所述紅外光源發出的紅外光反射至所述掩膜板。