[發明專利]基板對位裝置及方法、掩膜板、晶圓基板

在審

• 申請號: 201911342679.1
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN113097422A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 張耀輝;丁熙榮
• 申請（專利權）人: 合肥欣奕華智能機器有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種基板對位裝置，其特征在于，包括：

掩膜板調節部件，用于承載掩膜板，并調整所述掩膜板的位置；所述掩膜板上設置有鏤空結構的第一對位標記；

基板調節部件，用于承載待對位基板，并調整所述待對位基板的位置；所述待對位基板上設置有鏤空結構或凹槽結構的第二對位標記，且所述第一對位標記在所述待對位基板上的正投影能夠覆蓋所述第二對位標記；所述待對位基板具有相對的第一側和第二側，在進行對位的過程中，所述掩膜板位于所述待對位基板的第一側；

紅外光源，用于發出紅外光；在進行對位的過程中，所述紅外光從所述掩膜板的遠離所述待對位基板的一側入射，經所述第一對位標記，投射至所述待對位基板；

圖像傳感器，設置于所述待對位基板的第二側，用于獲取所述待對位基板的圖像。

2.根據權利要求1所述的基板對位裝置，其特征在于，所述紅外光源設置于所述待對位基板的第二側；

所述基板對位裝置還包括設置于所述掩膜板的遠離所述待對位基板的一側的反射部件，所述反射部件用于，將所述紅外光源發出的紅外光反射至所述掩膜板。

3.根據權利要求2所述的基板對位裝置，其特征在于，所述反射部件包括第一反射面和第二反射面；

所述第一反射面與所述紅外光源相對，所述第一反射面用于將所述紅外光源發出的紅外光反射至所述第二反射面；

所述第二反射面與所述掩膜板相對，所述第二反射面用于將所述第一反射面反射出來的紅外光反射至所述掩膜板。

4.根據權利要求1所述的基板對位裝置，其特征在于，所述紅外光源設置于所述待對位基板的第一側。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的基板對位裝置，其特征在于，所述基板對位裝置還包括調節控制部件和處理器；

所述處理器與所述調節控制部件，以及所述圖像傳感器耦接，用于從所述圖像傳感器中獲取所述待對位基板的圖像，分析所述第一對位標記與所述第二對位標記之間的位置偏差，根據所述位置偏差，向所述調節控制部件發送調節指令；

所述調節控制部件與所述掩膜板調節部件和所述基板調節部件連接，用于根據所接收的調節指令，控制所述掩膜板調節部件和/或所述基板調節部件進行移動，以使所述第一對位標記在所述待對位基板上的正投影覆蓋所述第二對位標記。

6.根據權利要求1～4中任一項所述的基板對位裝置，其特征在于，所述掩膜板上設置有至少兩個第一對位標記，所述待對位基板上設置有與所述至少兩個第一對位標記一一對應的至少兩個第二對位標記；

所述基板對位裝置包括至少兩組對位單元，每組對位單元包括：一個所述紅外光源和一個所述圖像傳感器；所述至少兩組對位單元與所述至少兩個第一對位標記一一對應。

7.一種掩膜板，其特征在于，應用于如權利要求1～6中任一項所述的基板對位裝置；所述掩膜板包括：

掩膜板主體；

設置于所述掩膜板主體上的鏤空的第一對位標記；所述第一對位標記包括圖形部分和多個第一對位基準部分，所述多個第一對位基準部分位于所述圖形部分的周圍；沿垂直于每個第一對位基準部分的寬度延伸方向的方向，所述圖形部分的尺寸大于該第一對位基準部分的尺寸。

8.根據權利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述多個第一對位基準部分中至少有兩個第一對位基準部分的長度延伸方向相互垂直。

9.根據權利要求7或8所述的掩膜板，其特征在于，所述圖形部分的形狀為圓形、橢圓形、長方形或正多邊形中的至少一種；

所述多個第一對位基準部分沿所述圖形部分的邊緣等間隔布置。