[發明專利]殼體及其制作方法

有效

• 申請號: 201911341842.2
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN113088965B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 田彪
• 申請（專利權）人: 深圳市萬普拉斯科技有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;C25D11/02;C25D11/18;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/12
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 單驍越

本發明涉及一種殼體及其制作方法。上述殼體包括：基材、染料層、二氧化硅膜、金屬膜、氟化鎂膜以及AF膜，其中，染料層層疊在基材上，二氧化硅膜層疊在染料層遠離基材的一側，金屬膜層疊在二氧化硅膜遠離染料層的一側，氟化鎂膜層疊在金屬膜遠離二氧化硅膜的一側，AF膜層疊在氟化鎂膜遠離金屬膜的一側。上述殼體能夠使染料層的色彩不易褪去，從而使殼體顯示出高亮艷麗的色彩。

技術領域

本發明涉及一種殼體及其制作方法。

背景技術

傳統的陽極氧化的高亮彩色膜(如深藍色、紫紅色等)為了保證顏色的艷麗，很多染料分子都在氧化層外附著。此種膜的反射率高，顏色鮮艷。但染料層經長時間使用后容易脫落或分解，造成顏色的改變。

發明內容

基于此，有必要提供一種能夠保持染料層的顏色穩定的殼體。

此外，還提供一種殼體的制作方法。

一種殼體，包括：基材、染料層、二氧化硅膜、金屬膜、氟化鎂膜以及AF膜，其中，所述染料層層疊在所述基材上，所述二氧化硅膜層疊在所述染料層遠離所述基材的一側，所述金屬膜層疊在所述二氧化硅膜遠離所述染料層的一側，所述氟化鎂膜層疊在所述金屬膜遠離所述二氧化硅膜的一側，所述AF膜層疊在所述氟化鎂膜遠離所述金屬膜的一側。

在其中一個實施例中，所述金屬膜的厚度為5nm～20nm；及/或，所述金屬膜為鋁膜。

在其中一個實施例中，所述染料層包括多孔的本體及填充在所述本體內的染料分子；及/或，所述基材為金屬基材。

在其中一個實施例中，所述二氧化硅膜的厚度為2nm～10nm；及/或，所述氟化鎂膜的厚度為5nm～10nm；及/或，所述AF膜的厚度為2nm～5nm。

一種殼體的制作方法，包括如下步驟：

提供基材和層疊在所述基材上的染料層；

在所述染料層遠離所述基材的一側層疊二氧化硅膜；

在所述二氧化硅膜遠離所述染料層的一側層疊金屬膜；

在所述金屬膜遠離所述二氧化硅膜的一側層疊氟化鎂膜；及

在所述氟化鎂膜遠離所述金屬膜的一側層疊AF膜，得到殼體。

在其中一個實施例中，所述基材為金屬基材，所述提供基材和層疊在所述基材上的染料層的步驟包括：先對所述基材進行陽極氧化處理；然后對所述基材進行染色，以在所述基材上形成染料層。

在其中一個實施例中，采用真空鍍膜的方式在所述染料層遠離所述基材的一側層疊所述二氧化硅膜，且所述真空鍍膜的過程中，真空度為2.0×10^-5torr～8.0×10^-5torr。

在其中一個實施例中，所述在所述染料層遠離所述基材的一側層疊二氧化硅膜的步驟之前，還包括對所述基材和所述染料層進行離子清洗的步驟。

在其中一個實施例中，所述對所述基材和所述染料層進行離子清洗的步驟中的工藝參數為：真空度為5.0×10^-5torr，電壓為100V～110V，陽極電流為5A～7A，氬氣流量為20sccm～30sccm。

在其中一個實施例中，所述在所述二氧化硅膜遠離所述染料層的一側層疊金屬膜的步驟中，采用真空蒸鍍的方式，真空度為8.0×10^-6torr，氬氣流量為60sccm～100sccm。