[發明專利]一種聚合物及包含其的光刻膠組合物

有效

• 申請號: 201911341837.1
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN113087843B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發明（設計）人: 李青松;劉永祥;劉嵩
• 申請（專利權）人: 北京鼎材科技有限公司
• 主分類號: C08F222/40
• 分類號: C08F222/40;C08F212/14;C08F220/20;C08F220/06;G03F7/027;G03F7/004
• 代理公司: 北京市創世宏景專利商標代理有限責任公司 11493
• 代理人: 崔永華

一種聚合物及包含其的光刻膠組合物，具有如下所示的結構：其中，R為單鍵或C1～C12亞烷基；R₁～R₃各自獨立地選自氫、C1～C12烷基、C3～C12環烷基或者C6～C18芳基；R₄為C2～C18亞烷基；n1為3～15的整數，n2為3～15的整數，n3為3～12的整數，n4為3～13的整數，m為1～3的整數。本發明的聚合物作為添加劑應用于光刻膠組合物中，能夠提升光刻膠的耐熱性的同時，保證良好的顯影性能。

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種聚合物及包含其的光刻膠組合物。

背景技術

正性光刻膠在液晶面板、OLED(有機電致發光)面板的TFT(薄膜晶體管)制作工藝中用于保護刻蝕線路，隨著面板技術的發展，TFT光刻膠朝著高感度、高耐熱性技術方向發展。光刻膠堿溶性不足會導致顯影性能不好，容易出現殘膜，通過調節酸值可以提升堿溶性，然而酸值過高則會導致顯影太快而使留膜率偏低；光刻膠耐熱性不足會導致圖形在烘烤過程中變形，形成直角或倒圓形，影響后續的刻蝕工藝。

發明內容

發明要解決的問題

為了進一步滿足對TFT光刻膠的顯影性能、耐熱性能等需求，亟需開發新的添加劑及光刻膠組合物，以便得到性能良好的TFT液晶面板或OLED面板。

解決問題的方案

為了解決上述現有技術中的問題，發明人潛心研究，發現分別含酚羥基、酰亞胺、羧基和羥烷基的四種單體所共聚得到的聚合物在作為添加劑時，能夠在提升光刻膠的耐熱性的同時，保證良好的顯影性能。

具體而言，本發明的目的之一是提供一種聚合物，具有如(I)所示的結構：

其中，R為單鍵或者C1～C12亞烷基；R1～R3各自獨立地選自氫、C1～C12烷基、C3～C12環烷基或者C6～C18芳基；R₄為C2～C18亞烷基；n1為3～15的整數，n2為3～15的整數，n3為3～12的整數，n4為3～13的整數，m為1～3的整數。

需要說明的是，對于上述式(I)中4種結構單元在聚合鏈上的位置沒有特別限定，即使上述聚合物是無規共聚物，只要R、R₁～R₄、n1～n4以及m均滿足上述限定，就能實現本發明的技術效果。

具體而言，本發明的上述通式(I)聚合物中，可通過使分別包含酚羥基、酰亞胺、羧基和羥烷基的四種單體(1)～(4)發生共聚從而形成該聚合物：

本發明的該通式(I)聚合物作為添加劑應用于光刻膠組合物時，源于含酚羥基的單體的結構單元能夠與光敏劑有效結合，從而提升光刻膠組合物的分辨率、顯影留膜率及堿溶速率，提升顯影性能，其中，此處的“分辨率”是指光刻膠能夠得到的最小圖形的尺寸，“顯影留膜率”是指非曝光區域顯影后膜厚與顯影前膜厚的比值，留膜率越高代表光刻膠組合物耐沖洗；“堿溶速率”是指光刻膠組合物在堿性顯影液中的溶解速率；源于含酰亞胺的單體的結構單元能夠提升光刻膠組合物的耐熱性；源于含羧基的單體的結構單元用于調整光刻膠組合物的酸值，從而調整在KOH、TMAH等堿性顯影液中的溶解性，提升顯影性能；源于含醇羥基的單體的結構單元能夠使聚合物之間以及聚合物與感光劑之間發生弱交聯反應，提升光刻膠組合物的硬度，從而提升光刻膠組合物的耐熱性。在前述四種結構單元的協同作用下，得到的光刻膠組合物具有顯影性能較佳、耐熱性良好的優點，其中，酚羥基、酰亞胺和醇羥基這三種單體的協同作用能夠顯著提高光刻膠組合物的耐熱性。