[發明專利]蒸鍍腔室內的監視裝置、蒸鍍機及監視方法

在審

• 申請號: 201911338368.8
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN110923634A
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 王江南;翟雪晶;陶培培;梁艦;史曉波;馮敏強;廖良生
• 申請（專利權）人: 江蘇集萃有機光電技術研究所有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/52
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發明公開了一種蒸鍍腔室內的監視裝置、蒸鍍機及監視方法，屬于金屬蒸鍍技術領域。本發明提供的蒸鍍腔室內的監視裝置，包括反射部、連接件和攝像機構，連接件被配置為將反射部與蒸鍍腔室連接，攝像機構包括攝像頭，攝像頭能夠配合反射部拍攝到蒸鍍裝置的所有部位。本發明實現了攝像頭在蒸鍍腔室內對蒸鍍裝置進行全方位拍攝。

技術領域

本發明涉及金屬蒸鍍技術領域，尤其涉及一種蒸鍍腔室內的監視裝置、使用該監視裝置的蒸鍍機及使用該監視裝置進行監視的方法。

背景技術

為了監視實驗用蒸鍍機腔體內部情況，除了設置觀察窗外，攝像頭的設置可以更好的觀察蒸鍍過程中各種情況，但實驗用蒸鍍機中有機材料與金屬在同一個腔體里蒸鍍，金屬蒸鍍在鏡頭上會污染鏡頭，同時高溫蒸鍍對攝像頭傳感器也有影響。

因此，亟需提供一種蒸鍍腔室內的監視裝置及蒸鍍機，以解決攝像頭在蒸鍍過程中被蒸鍍的金屬污染鏡頭的技術問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種蒸鍍腔室內的監視裝置、蒸鍍機及監視方法，以實現攝像頭在蒸鍍腔室內對蒸鍍裝置進行全方位拍攝，且避免被蒸鍍金屬污染鏡頭。

為實現上述目的，提供以下技術方案：

本發明提供了一種蒸鍍腔室內的監視裝置，包括：

反射部；

連接件，被配置為將所述反射部與蒸鍍腔室連接；

攝像機構，包括攝像頭，所述攝像頭能夠配合所述反射部拍攝到蒸鍍裝置的所有部位。

進一步地，所述連接件為具有至少一自由度的第一調控機構。

進一步地，所述第一調控機構為具有兩個自由度的調控機構，包括第一驅動結構及固定在所述第一驅動結構驅動端的第二驅動結構，所述第一驅動結構能夠繞第一方向轉動，所述第二驅動結構能夠繞第二方向轉動，所述第一方向與所述第二方向垂直，所述反射部固定在所述第二驅動結構的驅動端。

進一步地，所述第一調控機構還包括中轉臺和安裝板，所述中轉臺固定在所述第一驅動結構的驅動端，所述第二驅動結構設置在所述中轉臺上，所述安裝板固定在所述第二驅動結構的驅動端，所述反射部固定在所述安裝板上。

進一步地，所述第一調控機構為萬向轉動機構，所述萬向轉動機構包括第三驅動結構和萬向節，所述萬向節轉動連接在所述第三驅動結構的驅動端，所述反射部固定在所述萬向節上。

進一步地，所述攝像機構還包括第二調控機構，所述攝像頭固定在所述第二調控結構的調控端。

進一步地，所述攝像機構還包括隔離件，所述隔離件被配置為將所述攝像機構的攝像頭與蒸鍍裝置蒸鍍出的金屬蒸汽隔離。

進一步地，所述蒸鍍腔室內的監視裝置還包括光源組件，所述光源組件被配置為對所述蒸鍍腔室進行照明。

進一步地，所述蒸鍍腔室內的監視裝置還包括控制系統，所述控制系統包括監視模塊、數據處理模塊和執行模塊；所述監視模塊獲取待測樣品的位置，并將獲取的位置信息傳遞給所述數據處理模塊，所述數據處理模塊根據獲取的位置信息調取對應的調整參數，所述執行模塊根據調整參數調整所述反射部與所述攝像機構。

本發明還提供了一種蒸鍍機，包括蒸鍍腔室、蒸鍍裝置以及上述任一項技術方案所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，所述蒸鍍裝置及所述監視裝置均設置在所述蒸鍍腔室內。

進一步地，所述蒸鍍裝置包括多個加熱機構、放料板和樣品臺，所述加熱機構包括電源、正極和負極，所述放料板兩端分別固定在所述正極和所述負極上，所述放料板為導電材質，所述放料板被配置為放置待蒸鍍的金屬，所述樣品臺設置在所述加熱機構的上方，待蒸鍍的樣品放置在所述樣品臺上。