[發明專利]蒸鍍腔室內的監視裝置、蒸鍍機及監視方法

在審

• 申請號: 201911338368.8
• 申請日: 2019-12-23
• 公開（公告）號: CN110923634A
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 王江南;翟雪晶;陶培培;梁艦;史曉波;馮敏強;廖良生
• 申請（專利權）人: 江蘇集萃有機光電技術研究所有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/52
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，包括：

反射部(6)；

連接件，被配置為將所述反射部(6)與蒸鍍腔室連接；

攝像機構，包括攝像頭(8)，所述攝像頭(8)能夠配合所述反射部(6)拍攝到蒸鍍裝置的所有部位。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述連接件為具有至少一自由度的第一調控機構。

3.根據權利要求2所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述第一調控機構為具有兩個自由度的調控機構，包括第一驅動結構(2)及固定在所述第一驅動結構(2)驅動端的第二驅動結構(4)，所述第一驅動結構(2)能夠繞第一方向轉動，所述第二驅動結構(4)能夠繞第二方向轉動，所述第一方向與所述第二方向垂直，所述反射部(6)固定在所述第二驅動結構(4)的驅動端。

4.根據權利要求3所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述第一調控機構還包括中轉臺(3)和安裝板(5)，所述中轉臺(3)固定在所述第一驅動結構(2)的驅動端，所述第二驅動結構(4)設置在所述中轉臺(3)上，所述安裝板(5)固定在所述第二驅動結構(4)的驅動端，所述反射部(6)固定在所述安裝板(5)上。

5.根據權利要求2所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述第一調控機構為萬向轉動機構，所述萬向轉動機構包括第三驅動結構和萬向節，所述萬向節轉動連接在所述第三驅動結構的驅動端，所述反射部(6)固定在所述萬向節上。

6.根據權利要求1所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述攝像機構還包括第二調控機構，所述攝像頭(8)固定在所述第二調控機構的調控端。

7.根據權利要求1所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，所述攝像機構還包括隔離件(7)，所述隔離件(7)被配置為將所述攝像頭(8)與蒸鍍裝置蒸鍍出的金屬蒸汽隔離。

8.根據權利要求1所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，還包括光源組件，所述光源組件被配置為對所述蒸鍍腔室進行照明。

9.根據權利要求1所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，其特征在于，還包括控制系統，所述控制系統包括監視模塊、數據處理模塊和執行模塊；所述監視模塊獲取待測樣品的位置，并將獲取的位置信息傳遞給所述數據處理模塊，所述數據處理模塊根據獲取的位置信息調取對應的調整參數，所述執行模塊根據調整參數調整所述反射部(6)與所述攝像機構。

10.一種蒸鍍機，其特征在于，包括蒸鍍腔室、蒸鍍裝置以及如權利要求1-9任一項所述的蒸鍍腔室內的監視裝置，所述蒸鍍裝置及所述監視裝置均設置在所述蒸鍍腔室內。

11.根據權利要求10所述的蒸鍍機，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括多個加熱機構、放料板(12)和樣品臺(9)，所述加熱機構包括電源、正極(13)和負極(14)，所述放料板(12)兩端分別固定在所述正極(13)和所述負極(14)上，所述放料板(12)為導電材質，所述放料板(12)被配置為放置待蒸鍍的金屬，所述樣品臺(9)設置在所述加熱機構的上方，待蒸鍍的樣品放置在所述樣品臺(9)上。

12.一種利用如權利要求1-9任一項所述的蒸鍍腔室內的監視裝置對蒸鍍機的蒸鍍腔室進行監視的方法，其特征在于，包括如下步驟：

S100：控制系統獲得待觀察位置的指令信息；

S200：控制系統調取反射部(6)和攝像機構對應于指令信息所需要調整的狀態參數組合；

S300：控制系統控制連接件和/或攝像機構分別調整反射部(6)和/或攝像機構至指定狀態。