[發(fā)明專利]一種多層級(jí)立式石英舟及其加工工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911331278.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111106049A | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張忠恕;王連連;趙鶴;陳強(qiáng);于洋;馮繼瑤;張娟;邊占寧;孫云濤;李寶軍;張連興;王建立 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 張忠恕 |
| 主分類號(hào): | H01L21/673 | 分類號(hào): | H01L21/673;C03C15/02 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100000 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多層 立式 石英 及其 加工 工藝 | ||
1.一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:包括上端板(1)、下端板(2)、上開槽棒(3)、下開槽棒(4)、第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6)、第一石英釘(7)、第二石英釘(8),所述所述上端板(1)與下端板(2)之間焊接有上開槽棒(3)、下開槽棒(4),所述上開槽棒(3)、下開槽棒(4)外圍固定焊接有固定柱(9)與上端板(1)與下端板(2)固定焊接,所述上開槽棒(3)、下開槽棒(4)內(nèi)設(shè)置有第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6),所述第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6)上通過(guò)粘接固定連接有第一石英釘(7)、第二石英釘(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:所述第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6)結(jié)構(gòu)相同,且在第一環(huán)片(5)上固定對(duì)稱粘接有第一石英釘(7),所述第二環(huán)片(6)上固定對(duì)稱粘接有第二石英釘(8),所述第一石英釘(7)長(zhǎng)度小于第二石英釘(8)長(zhǎng)度3-5mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:位于所述上開槽棒(3)所在位置的左右對(duì)稱開有兩個(gè)上圓弧槽,位于所述下開槽棒(4)所在位置開有一個(gè)下圓弧槽,所述上下圓弧槽大小相同,且位于下圓弧槽與上圓弧槽之間左右對(duì)稱開有小弧槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:所述上端板(1)、下端板(2)上的上、下、左象限點(diǎn)位置均開有圓弧,所述上、下象限點(diǎn)位置的圓弧向外,左象限點(diǎn)位置開有的圓弧向內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:所述下端板(2)上開有內(nèi)口,所述內(nèi)口上下象限點(diǎn)位置固定對(duì)稱開有弧口,所述弧口角度100度;
所述下端板(2)上弧口邊沿固定設(shè)有3個(gè)帶有半圓的弧形平臺(tái)階槽;
所述下端板(2)上內(nèi)口邊沿位于下象限點(diǎn)位置的弧口與弧形平臺(tái)階槽之間固定開有呈坡角的弧形坡角臺(tái)階槽,所述坡角為20度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多層級(jí)立式石英舟,其特征在于:所述上開槽棒(3)、下開槽棒(4)上開有若干大小相同凹槽,且上開槽棒(3)寬度大于下開槽棒(4)寬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的一種多層級(jí)立式石英舟的加工工藝,其特征在于,包括如下加工步驟:
1)第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6)經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,激光切割,充分退火,恒溫120分鐘,
2)磨削厚度,尖角倒鈍C\R0.5,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗;
3)火拋環(huán)片內(nèi)外側(cè)面區(qū)域,充分退火,恒溫120分鐘;通過(guò)冷拋機(jī)進(jìn)行雙面冷拋;
4)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,粘釘前將釘拋亮,整體火拋,充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,備用;
5)磨削第一石英釘(7)、第二石英釘(8),經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,備用;
6)磨削上端板(1)、下端板(2)兩側(cè)平面,厚度保證尺寸,經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,整體火拋,充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,備用;
7)上開槽棒(3)、下開槽棒(4)按要求開槽并倒角,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,槽部火拋,保證槽部不變形,后充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,備用;
8)上端板(1)、下端板(2)、上開槽棒(3)、下開槽棒(4)、第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6)、第一石英釘(7)、第二石英釘(8)拼裝前,經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗;
9)通過(guò)點(diǎn)焊方式組裝上端板(1)、下端板(2)與上開槽棒(3)、下開槽棒(4),經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,檢測(cè)合格后,封焊焊口,立式爐充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗;
10)舟架整體拋光,立式爐充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,根據(jù)配件圖檢驗(yàn)尺寸與外觀;
11)點(diǎn)焊組裝第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6),通過(guò)立式爐充分退火,恒溫120分鐘,氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,點(diǎn)焊調(diào)整第一環(huán)片(5)、第二環(huán)片(6);
12)通過(guò)臥式爐充分退火,恒溫120分鐘,后經(jīng)過(guò)氫氟酸浸泡1-2小時(shí),純水沖洗,烘干整體包裝。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于張忠恕,未經(jīng)張忠恕許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911331278.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種多功能電子燈
- 下一篇:一種房屋修補(bǔ)用防水材料及其制備方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





