[發(fā)明專利]一種環(huán)件三坐標(biāo)檢具及利用其的測(cè)量方法和用途

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911318573.8
• 申請(qǐng)日: 2019-12-19
• 公開（公告）號(hào): CN110906893B
• 公開（公告）日: 2022-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;潘杰;邊逸軍;王學(xué)澤;陳文慶;羅明浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號(hào): G01B21/00
• 分類號(hào): G01B21/00;G01B21/04;G01B21/08
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

1.一種環(huán)件三坐標(biāo)檢具，其特征在于，所述檢具包括底座；

所述底座上設(shè)置有與待測(cè)環(huán)件相匹配的圓形凹腔；

在所述底座上，沿圓形凹腔的外周設(shè)置有供三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)測(cè)針伸入的凹槽；

在所述底座的圓形凹腔內(nèi)，沿圓形凹腔的內(nèi)周設(shè)置有凸臺(tái)；

所述凸臺(tái)與所述凹槽錯(cuò)開設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢具，其特征在于，所述圓形凹腔的深度為45～60mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢具，其特征在于，所述圓形凹腔的深度為48～55mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢具，其特征在于，所述凹槽的深度小于圓形凹腔的深度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢具，其特征在于，所述凹槽比圓形凹腔的深度小10～15mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢具，其特征在于，所述凹槽沿圓形凹腔的外周呈等角度分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢具，其特征在于，所述凹槽的個(gè)數(shù)為2～4個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢具，其特征在于，所述凹槽的個(gè)數(shù)為3個(gè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢具，其特征在于，所述凹槽為弧形凹槽。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的檢具，其特征在于，所述弧形凹槽的寬度大于45mm。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的檢具，其特征在于，所述弧形凹槽的寬度為50～80mm。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的檢具，其特征在于，所述弧形凹槽的弧度為0.35～0.55。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的檢具，其特征在于，所述弧形凹槽的弧度為0.40～0.55。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢具，其特征在于，所述底座的高度為90～110mm。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的檢具，其特征在于，所述底座的高度為95～105mm。

16.根據(jù)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的檢具，其特征在于，所述底座為圓形底座、矩形底座或三角形底座。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的檢具，其特征在于，所述底座為矩形底座。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的檢具，其特征在于，所述矩形底座的長(zhǎng)為550～800mm。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的檢具，其特征在于，所述矩形底座的長(zhǎng)為580～750mm。

20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的檢具，其特征在于，所述矩形底座的寬為550～800mm。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的檢具，其特征在于，所述矩形底座的寬為580～750mm。

22.根據(jù)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的檢具，其特征在于，所述凸臺(tái)的高度為30～45mm。

23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的檢具，其特征在于，所述凸臺(tái)的高度為33～40mm。

24.根據(jù)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的檢具，其特征在于，所述凸臺(tái)的個(gè)數(shù)為2～8個(gè)。