[發明專利]自釋釉誘發劑、自釋釉陶瓷磚及其制備方法有效
| 申請號: | 201911317376.4 | 申請日: | 2019-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN110963791B | 公開(公告)日: | 2022-04-22 |
| 發明(設計)人: | 梁桐燦;余國明;李少平;萬世聰 | 申請(專利權)人: | 廣東宏陶陶瓷有限公司;廣東宏海陶瓷實業發展有限公司;廣東宏宇新型材料有限公司;廣東宏威陶瓷實業有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/18 | 分類號: | C04B35/18;C04B41/81;C09D201/00;C09D7/61;C09D7/65 |
| 代理公司: | 北京中北知識產權代理有限公司 11253 | 代理人: | 段秋玲 |
| 地址: | 511500 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 誘發 釉陶 瓷磚 及其 制備 方法 | ||
1.一種自釋釉陶瓷磚的制備方法,其特征在于:
其包括以下步驟:
A、坯體的制備:
坯體的組分的重量百分比為:
SiO2 66.5%~69.5%,Al2O3 15%~18%,CaO 1%~4%,Fe2O3+TiO2 1%~2%,MgO1%~3%,K2O 2%~4%,Na2O 1%~3%,Li2O 0.2%~0.6%,灼燒減量3%~5%;所有的組分之和為100%;
將含上述組分的粘土、陶瓷廢渣、透輝石、滑石、玻璃粉、鋰輝石以及外加重量百分比為1%~3%的輔助原料,再加入適量的水經球磨細碎成細度為250目篩的篩余為質量百分比為1%~3%,含質量百分比為33%~36%水分的漿料,經除鐵過篩噴霧干燥制成含質量百分比為5.5%~7.5%水分的粉料,用自動液壓機壓制成型,干燥窯干燥,即得坯體;
其中所述的陶瓷廢渣包括陶瓷拋光磚、仿古磚和釉面磚生產過程中各工序產生的廢水經處理后壓榨的污泥渣;
其中所述的玻璃粉為各種廢玻璃經破碎而成的粉;
其中所述的外加輔助原料包括水玻璃、五水偏硅酸鈉和三聚磷酸鈉;
B、自釋釉誘發劑的制備:
自釋釉誘發劑的重量份組分為:
水60~100份,陶瓷膠輥印油50~90份,促進劑25~35份,氧化鋅1~3份,水玻璃10~30份,添加劑2~4份;
按上述自釋釉誘發劑的重量份組分稱取相應的水、陶瓷膠輥印油、促進劑、氧化鋅、水玻璃、添加劑一起入研磨機中研磨均勻,過篩即得自釋釉誘發劑;
其中所述的促進劑為硼酸、硼砂、碳酸鉀、硝酸鉀、碳酸鈉、硝酸鈉中的一種或幾種混合;
其中所述的添加劑包括三聚磷酸鈉和羧甲基纖維素;
C、產品的制備及燒成:
將步驟A制備得到的坯體,先噴適量的水,然后再噴施步驟B得到的自釋釉誘發劑,自釋釉誘發劑的噴劑量為380~560g/m2,再根據產品設計需要用絲網版或膠印輥或噴墨印花機進行印花裝飾,然后經過施底漿,再進入輥道窯燒成,最高燒成溫度范圍為1125℃~1150℃,燒成時間范圍為60~90分鐘,經過磨邊、分級工序,最后制得成品。
2.根據權利要求1所述的自釋釉陶瓷磚的制備方法,其特征在于:
根據所述的自釋釉陶瓷磚的制備方法制備得到的自釋釉陶瓷磚成品陶瓷磚表面光滑細膩,呈微凹凸狀,用WGG60-E4光澤度計測量產品表面的光澤度為4~8,但在斜光或射燈照射下,發出強烈的金屬光澤,用30倍放大鏡觀察產品斷面,整個斷面均勻一致,無坯釉分界層。
3.一種自釋釉陶瓷磚,其特征在于:
其根據權利要求1或2所述的自釋釉陶瓷磚的制備方法制備得到。
4.一種自釋釉誘發劑的制備方法,其特征在于:
其包括以下制備步驟:
a.自釋釉誘發劑的重量份組分為:
水60~100份,陶瓷膠輥印油50~90份,促進劑25~35份,氧化鋅1~3份,水玻璃10~30份,添加劑2~4份;
其中的促進劑為硼酸、硼砂、碳酸鉀、硝酸鉀、碳酸鈉、硝酸鈉中的一種或幾種混合;
其中的添加劑包括三聚磷酸鈉和羧甲基纖維素;
b.按上述自釋釉誘發劑的重量份組分稱取相應的水、膠輥印油、促進劑、氧化鋅、水玻璃、添加劑一起入研磨機中研磨均勻,過篩即得自釋釉誘發劑。
5.根據權利要求4所述的自釋釉誘發劑的制備方法,其特征在于:
所述的自釋釉誘發劑在自釋釉陶瓷磚中的噴劑量為380~560g/m2。
6.一種自釋釉誘發劑,其特征在于:
其根據權利要求4或5所述的自釋釉誘發劑的制備方法制備得到。
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