[發(fā)明專利]一種水平對中校準(zhǔn)夾具、拉晶爐及水平對中校準(zhǔn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911311540.0 | 申請日: | 2019-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN110952134B | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 潘浩;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請(專利權(quán))人: | 西安奕斯偉材料科技有限公司;西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/12 | 分類號: | C30B15/12;C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 劉長春 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 水平 校準(zhǔn) 夾具 拉晶爐 方法 | ||
1.一種水平對中校準(zhǔn)夾具,其特征在于,包括:若干支撐架、若干第一平衡件以及若干可為豎直狀態(tài)或水平狀態(tài)的測量組件,其中,
所述第一平衡件設(shè)置于所述支撐架上,所述測量組件活動設(shè)置于所述支撐架上,且所述測量組件處于豎直狀態(tài)時,所述測量組件以第一校準(zhǔn)值為基準(zhǔn)測量待測量件的第一狀態(tài),所述測量組件處于水平狀態(tài)時,所述測量組件以第二校準(zhǔn)值為基準(zhǔn)測量待測量件的第二狀態(tài),所述第一校準(zhǔn)值用于確定測量待測量件水平狀態(tài)時的測量基準(zhǔn),所述第二校準(zhǔn)值用于確定測量待測量件對中狀態(tài)時的測量基準(zhǔn),所述待測量件為石墨坩堝或石英坩堝;
所述測量組件包括可在所述支撐架上進(jìn)行水平移動、豎直移動和轉(zhuǎn)動的測量尺以及可在所述測量尺上移動的測量指針,所述測量指針移動至所述測量尺上所述第一校準(zhǔn)值對應(yīng)的位置以確定所述待測量件的第一狀態(tài),所述測量指針移動至測量尺上所述第二校準(zhǔn)值對應(yīng)的位置以確定所述待測量件的第二狀態(tài);
所述水平對中校準(zhǔn)夾具還包括若干圓形的調(diào)節(jié)件,所述調(diào)節(jié)件活動設(shè)置于所述支撐架上,所述調(diào)節(jié)件的圓周方向上設(shè)置有用于嚙合的若干第一凸起部分,所述測量尺上設(shè)置有用于嚙合的若干第二凸起部分,所述測量尺通過所述第二凸起部分與所述第一凸起部分相互嚙合以使所述測量尺豎直移動和轉(zhuǎn)動;
所述水平對中校準(zhǔn)夾具還包括吊鏈、吊扣和軟質(zhì)吸盤,其中,
所述吊鏈的一端連接于所述支撐架上,所述吊鏈的另一端通過所述吊扣連接于所述軟質(zhì)吸盤上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平對中校準(zhǔn)夾具,其特征在于,所述支撐架上設(shè)置有水平方向的滑槽,所述調(diào)節(jié)件的兩側(cè)面上設(shè)置有滑桿;其中,所述調(diào)節(jié)件的滑桿設(shè)置于所述滑槽中以使所述調(diào)節(jié)件沿所述滑槽移動時帶動所述測量尺進(jìn)行水平移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水平對中校準(zhǔn)夾具,其特征在于,所述測量尺還包括第二平衡件,所述第二平衡件設(shè)置于所述測量尺上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平對中校準(zhǔn)夾具,其特征在于,所述第一平衡件包括透明承載件、液體和氣泡,其中,
所述液體設(shè)置于所述透明承載件的內(nèi)腔中,且所述氣泡設(shè)置于所述液體中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的水平對中校準(zhǔn)夾具,其特征在于,所述測量組件對稱設(shè)置在所述支撐架的兩端。
6.一種拉晶爐,其特征在于,包括權(quán)利要求1至5任一項所述的水平對中校準(zhǔn)夾具。
7.一種水平對中校準(zhǔn)方法,其特征在于,利用1至5任一項所述的水平對中校準(zhǔn)夾具的對待測量件進(jìn)行水平狀態(tài)的測量和對中狀態(tài)的測量,所述水平對中校準(zhǔn)方法包括:
將支撐架放置于拉晶爐中的主爐室上;
通過設(shè)置在所述支撐架上的第一平衡件確定所述支撐架處于水平狀態(tài);
通過使測量組件處于豎直狀態(tài)以判斷待測量件的第一狀態(tài),若所述第一狀態(tài)為待測量件未處于水平狀態(tài),則調(diào)整所述待測量件至水平狀態(tài);
通過使所述測量組件處于水平狀態(tài)以判斷所述待測量件的第二狀態(tài),若所述第二狀態(tài)為所述待測量件未處于對中狀態(tài),則調(diào)整所述待測量件至對中狀態(tài)。
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