[發(fā)明專利]一種超細(xì)鍺粉粒徑控制的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911302505.2 | 申請日： | 2019-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN110842211A | 公開（公告）日： | 2020-02-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳知江;崔丁方;彭明清;王侃;子光平;繆彥美;何興軍;廖吉偉;朱家義;周雪娟 | 申請（專利權(quán)）人： | 云南馳宏國際鍺業(yè)有限公司 |
| 主分類號： | B22F9/22 | 分類號： | B22F9/22 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 655099 云南省曲靖市翠峰西路*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 超細(xì)鍺粉 粒徑 控制 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種超細(xì)鍺粉粒徑控制的方法，所述方法包括以下步驟：將粒徑為5um～100um的二氧化鍺生產(chǎn)原料投入粉體氣流粉碎機進行處理，得到粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體；將得到的粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體裝入石墨舟中，置于還原爐的石英管內(nèi)，將進料口堵嚴(yán)密后開動真空泵抽真空，將還原爐內(nèi)的空氣抽盡后開始通入純凈氫氣，并開始加熱升溫，至出氣尾管沒有水流出時，表示還原反應(yīng)結(jié)束，停止加熱，繼續(xù)通純凈氫氣，待爐溫慢慢冷卻到室溫時。本發(fā)明對超細(xì)鍺粉的生產(chǎn)源頭二氧化鍺的粒徑進行控制和處理，將二氧化鍺經(jīng)過粉體氣流粉碎機進行粉碎，利用生產(chǎn)過程中粉體物料的團聚，很好的解決了超細(xì)鍺粉產(chǎn)出小、物料浪費大、能耗高的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及超細(xì)鍺粉制備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種超細(xì)鍺粉粒徑控制的方法。
背景技術(shù)
鍺具備多方面的特殊性質(zhì)，在半導(dǎo)體、航空航天測控、核物理探測、光纖通訊、紅外光學(xué)、太陽能電池、化學(xué)催化劑、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有廣泛而重要的應(yīng)用，是一種重要的戰(zhàn)略資源，在電子工業(yè)中，在合金預(yù)處理中，在光學(xué)工業(yè)上，還可以作為催化劑，在超細(xì)鍺粉生產(chǎn)過程中，二氧化鍺是生產(chǎn)原料，二氧化鍺粒徑粒度分布在5um～100um的范圍，經(jīng)還原生產(chǎn)后產(chǎn)出的鍺粉會形成團聚，粒徑為8um～149um，要生產(chǎn)出40um～60um合格的超細(xì)鍺粉，經(jīng)粉體分級后得到的40um～60um的超細(xì)鍺粉才占比21%，100公斤鍺粉才能產(chǎn)出20公斤超細(xì)鍺粉，產(chǎn)出量太少，物料浪費大，能耗大，因此有必要對現(xiàn)有技術(shù)進行改進，以解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種超細(xì)鍺粉粒徑控制的方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)有的超細(xì)鍺粉制備方法產(chǎn)出量太少，物料浪費大，能耗大的問題。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種超細(xì)鍺粉粒徑控制的方法，所述方法包括以下步驟：
S1：將粒徑為5um～100um的二氧化鍺生產(chǎn)原料投入粉體氣流粉碎機進行處理，得到粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體；
S2：將得到的粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體裝入石墨舟中，置于還原爐的石英管內(nèi)，將進料口堵嚴(yán)密后開動真空泵抽真空，將還原爐內(nèi)的空氣抽盡后開始通入純凈氫氣，并開始加熱升溫，至出氣尾管沒有水流出時，表示還原反應(yīng)結(jié)束，停止加熱，繼續(xù)通純凈氫氣，待爐溫慢慢冷卻到室溫時，打開爐門取出石墨舟，還原后得到30um～70um的鍺粉；
S3：將得到的粒徑為30um～70um的鍺粉投入粉體分級機內(nèi)，經(jīng)粉體分級機分級后得到40um～60um的超細(xì)鍺粉。
優(yōu)選的，所述S1中粉體氣流粉碎機在處理時的氣流流量設(shè)置為1.5 m3／min，壓力設(shè)置為0．65MPa，控制時間設(shè)置為120min。
優(yōu)選的，所述S1中粉體氣流粉碎機主要的內(nèi)部部分由陶瓷材料制成，粉體氣流粉碎機內(nèi)部其它與二氧化鍺物料接觸部份由四氟塑料制成。
優(yōu)選的，所述S2中純凈氫氣的通入流量設(shè)置為0.4 m3／min。
優(yōu)選的，所述S2中還原爐的還原過程設(shè)置為三段加熱還原過程，三段加熱還原過程的三個溫區(qū)溫度依次設(shè)置為460℃、660℃以及760℃。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是。
（1）本發(fā)明從超細(xì)鍺粉的生產(chǎn)源頭對二氧化鍺的粒徑進行控制和處理，二氧化鍺生產(chǎn)原料經(jīng)過粉體氣流粉碎機進行處理，利用生產(chǎn)過程中粉體物料的團聚，很好的解決了超細(xì)鍺粉產(chǎn)出小、物料浪費大、能耗高的問題，經(jīng)本發(fā)明方法生產(chǎn)的超細(xì)鍺粉產(chǎn)量提高2.5倍。
（2）本發(fā)明通過對還原爐的還原過程設(shè)置為三段加熱還原過程，從而容易控制還原反應(yīng)，通過優(yōu)化純凈氫氣流量，優(yōu)化三個溫區(qū)的加熱溫度，進而減少能耗，二氧化鍺物料內(nèi)部能徹底加熱，整個還原過程能更加徹底，物料不會浪費。
附圖說明
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