[發明專利]一種超細鍺粉粒徑控制的方法

在審

• 申請號: 201911302505.2
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN110842211A
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發明（設計）人: 陳知江;崔丁方;彭明清;王侃;子光平;繆彥美;何興軍;廖吉偉;朱家義;周雪娟
• 申請（專利權）人: 云南馳宏國際鍺業有限公司
• 主分類號: B22F9/22
• 分類號: B22F9/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種超細鍺粉粒徑控制的方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟：

S1：將粒徑為5um～100um的二氧化鍺生產原料投入粉體氣流粉碎機進行處理，得到粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體；

S2：將得到的粒徑為15um～45um的二氧化鍺粉體裝入石墨舟中，置于還原爐的石英管內，將進料口堵嚴密后開動真空泵抽真空，將還原爐內的空氣抽盡后開始通入純凈氫氣，并開始加熱升溫，至出氣尾管沒有水流出時，表示還原反應結束，停止加熱，繼續通純凈氫氣，待爐溫慢慢冷卻到室溫時，打開爐門取出石墨舟，還原后得到30um～70um的鍺粉；

S3：將得到的粒徑為30um～70um的鍺粉投入粉體分級機內，經粉體分級機分級后得到40um～60um的超細鍺粉。

2.根據權利要求1所述的一種超細鍺粉粒徑控制的方法，其特征在于：所述S1中粉體氣流粉碎機在處理時的氣流流量設置為1.5 m³／min，壓力設置為0．65MPa，控制時間設置為120min。

3.根據權利要求1所述的一種超細鍺粉粒徑控制的方法，其特征在于：所述S1中粉體氣流粉碎機主要的內部部分由陶瓷材料制成，粉體氣流粉碎機內部其它與二氧化鍺物料接觸部份由四氟塑料制成。

4.根據權利要求1所述的一種超細鍺粉粒徑控制的方法，其特征在于：所述S2中純凈氫氣的通入流量設置為0.4 m³／min。

5.根據權利要求1所述的一種超細鍺粉粒徑控制的方法，其特征在于：所述S2中還原爐的還原過程設置為三段加熱還原過程，三段加熱還原過程的三個溫區溫度依次設置為460℃、660℃以及760℃。