[發(fā)明專利]拋光墊即時(shí)整修方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911299600.1
• 申請(qǐng)日: 2019-12-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112975749A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳炤彰;林建憲;陳俊臣;李人杰;王仲偉;傅彥綺
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大量科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B53/017
• 分類號(hào): B24B53/017;B24B37/005;B24B49/12
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139
• 代理人: 李林

本發(fā)明提供一種拋光墊即時(shí)整修方法，包含有修整步驟、檢測(cè)步驟、重建與分析步驟，利用檢測(cè)對(duì)拋光墊表面形貌進(jìn)行重建，并依據(jù)重建進(jìn)行分析，以確保拋光墊表面經(jīng)整修后能恢復(fù)其功效，并讓拋光墊可有效的利用，節(jié)省使用成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種拋光墊即時(shí)整修方法，尤指利用表面形貌從建來(lái)對(duì)化學(xué)機(jī)械研磨裝置中的拋光墊進(jìn)行整修的方法

背景技術(shù)

化學(xué)機(jī)械研磨裝置是結(jié)合了化學(xué)和機(jī)械拋光的原理，以達(dá)成對(duì)高度復(fù)合材料時(shí)，可以夠均勻地進(jìn)行拋光加工，而化學(xué)機(jī)械研磨裝置的拋光墊在使用一段時(shí)間后，必須進(jìn)行表面修整，以維持拋光墊的研磨能力，現(xiàn)有的整修拋光墊方式，是依據(jù)拋光墊廠商所給使用壽限，或是使用者的經(jīng)驗(yàn)判斷進(jìn)行整修與更換，一般來(lái)說(shuō)，是固定拋光墊使用一定時(shí)間后，以整修器對(duì)拋光墊整修一定的溝槽深度，然而，不同研磨制程所造成拋光墊損耗的狀況不同，若拋光墊的損耗較低，則拋光墊會(huì)有的浪費(fèi)問(wèn)題產(chǎn)生，若拋光墊的損耗較高，則會(huì)發(fā)生整修厚度不足的問(wèn)題。

是以，要如何解決上述現(xiàn)有的問(wèn)題與缺失，即為相關(guān)業(yè)者所亟欲研發(fā)的課題所在。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的乃在于，利用檢測(cè)對(duì)拋光墊表面形貌進(jìn)行重建，并依據(jù)重建進(jìn)行分析，以確保拋光墊表面經(jīng)整修后能恢復(fù)其功效，且不會(huì)有拋光墊厚度的浪費(fèi)，進(jìn)而讓拋光墊可有效的利用，節(jié)省使用成本。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明拋光墊即時(shí)整修方法，包含有：

修整步驟：拋光墊依基座旋轉(zhuǎn)，使修整器抵壓于拋光墊表面，并朝向拋光墊內(nèi)側(cè)或外側(cè)位移，對(duì)拋光墊表面進(jìn)行修整；

檢測(cè)步驟：拋光墊保持旋轉(zhuǎn)，檢測(cè)裝置于拋光墊上方朝向拋光墊內(nèi)側(cè)或外側(cè)位移，讓檢測(cè)裝置持續(xù)地對(duì)拋光墊進(jìn)行檢測(cè)，并將檢測(cè)資料傳送至主機(jī)端；

重建與分析步驟：主機(jī)端依據(jù)檢測(cè)裝置所傳送的檢測(cè)資料進(jìn)行拋光墊表面形貌重建，再根據(jù)形貌重建的結(jié)果進(jìn)行分析。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該重建與分析步驟中的主機(jī)端根據(jù)形貌重建的結(jié)果進(jìn)行的分析，為拋光墊表面粗糙度分析，當(dāng)粗糙度分析結(jié)果為不足時(shí)，則使拋光墊再次進(jìn)行修整步驟以及檢測(cè)步驟，直到重建與分析步驟分析出拋光墊表面粗糙度足夠?yàn)橹埂?/p>

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該重建與分析步驟中的主機(jī)端根據(jù)形貌重建的結(jié)果進(jìn)行的分析，為拋光墊的溝槽深度分析，當(dāng)溝槽深度分析結(jié)果為不足時(shí)，則發(fā)出更換拋光墊的訊息。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)裝置，具有用以檢測(cè)拋光墊表面的檢測(cè)器，以及利用氣體噴注讓拋光液層產(chǎn)生隔離區(qū)域使拋光墊露出的隔離器。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)裝置的隔離器具有用以噴注氣體的氣嘴，氣嘴噴注氣體范圍包含檢測(cè)器的檢測(cè)位置。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)裝置還設(shè)置有位移器，位移器具有驅(qū)動(dòng)單元以及連接于驅(qū)動(dòng)單元的擺臂，檢測(cè)器與隔離器連接于擺臂，驅(qū)動(dòng)單元系驅(qū)動(dòng)擺臂帶動(dòng)檢測(cè)器與隔離器于拋光墊上方朝向拋光墊內(nèi)側(cè)或外側(cè)以直線或弧形方式水平位移。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)裝置還設(shè)置有位移器，位移器具有驅(qū)動(dòng)單元以及連接于驅(qū)動(dòng)單元的位移臂，檢測(cè)器與隔離器連接于位移臂，驅(qū)動(dòng)單元能夠驅(qū)動(dòng)位移臂帶動(dòng)檢測(cè)器與隔離器于拋光墊上方朝向拋光墊內(nèi)側(cè)或外側(cè)直線水平位移。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)裝置的檢測(cè)器是共軛焦顯微鏡或感光耦合元件。

前述的拋光墊即時(shí)整修方法，其中該檢測(cè)步驟中的檢測(cè)裝置是以固定或非固定檢測(cè)頻率持續(xù)地對(duì)拋光墊進(jìn)行檢測(cè)，而檢測(cè)裝置于拋光墊上方朝向拋光墊內(nèi)側(cè)或外側(cè)位移時(shí)，其位移速為變動(dòng)速率。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明檢測(cè)裝置進(jìn)行檢測(cè)的示意圖。

圖2是本發(fā)明檢測(cè)裝置的擺臂擺動(dòng)的示意圖。