[發(fā)明專(zhuān)利]一種側(cè)面引出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法、堆疊結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911292885.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110943041A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 侯紅偉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 山東硯鼎電子科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/78 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/78;H01L21/60;H01L23/48;H01L23/488;H01L23/367;H01L25/065 |
| 代理公司: | 北京華際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11676 | 代理人: | 葉宇 |
| 地址: | 250000 山東省濟(jì)南市歷城區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 側(cè)面 引出 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 堆疊 | ||
本發(fā)明提供一種側(cè)面引出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法、堆疊結(jié)構(gòu),本發(fā)明通過(guò)聚合物層或第二樹(shù)脂層實(shí)現(xiàn)兩個(gè)芯片結(jié)構(gòu)的粘合,減小疊置體的厚度。所述聚合物層或第二樹(shù)脂層中可以混合有無(wú)機(jī)填料,以增強(qiáng)散熱。本發(fā)明的結(jié)構(gòu)既實(shí)現(xiàn)了扇出型封裝結(jié)構(gòu),也同時(shí)實(shí)現(xiàn)了側(cè)面引出和能夠使得堆疊封裝較薄的側(cè)面引出結(jié)構(gòu)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉半導(dǎo)體集成電路封裝領(lǐng)域,屬于H01L23/00分類(lèi)號(hào)下,尤其涉及一種側(cè)面引出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法、堆疊結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
集成電路封裝是伴隨集成電路的發(fā)展而前進(jìn)的。隨著宇航、航空、機(jī)械、輕工、化工等各個(gè)行業(yè)的不斷發(fā)展,整機(jī)也向著多功能、小型化方向變化。這樣,就要求集成電路的集成度越來(lái)越高,功能越來(lái)越復(fù)雜。相應(yīng)地要求集成電路封裝密度越來(lái)越大,引線數(shù)越來(lái)越多,而體積越來(lái)越小,重量越來(lái)越輕,更新?lián)Q代越來(lái)越快,封裝結(jié)構(gòu)的合理性和科學(xué)性將直接影響集成電路的質(zhì)量。因此,對(duì)于集成電路的制造者和使用者,除了掌握各類(lèi)集成電路的性能參數(shù)和識(shí)別引線排列外,還要對(duì)集成電路各種封裝的外形尺寸、公差配合、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和封裝材料等知識(shí)有一個(gè)系統(tǒng)的認(rèn)識(shí)和了解。以便使集成電路制造者不因選用封裝不當(dāng)而降低集成電路性能;也使集成電路使用者在采用集成電路進(jìn)行征集設(shè)計(jì)和組裝時(shí),合理進(jìn)行平面布局、空間占用,做到選型恰當(dāng)、應(yīng)用合理。
對(duì)于三維的集成電路封裝,其電極端往往位于芯片的正上方,其通過(guò)焊球或者焊線與封裝基板進(jìn)行電連接時(shí),往往會(huì)增加三維封裝的高度,不利于集成度和微型化,且多芯片的堆疊的散熱性能較差,不利于可靠性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種側(cè)面引出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法,包括:
(1)提供一晶圓,所述晶圓的第一表面上形成有多個(gè)半導(dǎo)體器件,且所述多個(gè)半導(dǎo)體器件的每一個(gè)在所述第一表面上具有電極,所述多個(gè)半導(dǎo)體器件之間設(shè)有切割道;
(2)在所述切割道位置形成多個(gè)盲孔,所述多個(gè)盲孔的寬度大于所述切割道的寬度;
(3)在所述多個(gè)盲孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成導(dǎo)電孔;
(4)在所述第一表面上形成絕緣層,所述絕緣層上形成開(kāi)口,所述開(kāi)口露出所述電極和導(dǎo)電孔;
(5)在所述絕緣層上形成導(dǎo)電層,所述導(dǎo)電層電連接所述電極和所述導(dǎo)電孔;
(6)在所述第一表面上覆蓋聚合物層;
(7)沿著所述切割道進(jìn)行切割實(shí)現(xiàn)單體化,所述切割沿著所述導(dǎo)電孔的寬度的中心進(jìn)行,使得所述導(dǎo)電孔在側(cè)面露出。
本發(fā)明還提供了另一種側(cè)面引出的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的制造方法,包括:
(1)提供一載板,所述載板上固定有多個(gè)半導(dǎo)體芯片,且所述多個(gè)半導(dǎo)體芯片具有朝上的電極,并且在所述多個(gè)半導(dǎo)體芯片之間填充有第一樹(shù)脂層;
(2)在所述多個(gè)半導(dǎo)體芯片之間的第一樹(shù)脂層內(nèi)形成多個(gè)盲孔;
(3)在所述第一表面上形成絕緣層,所述絕緣層上形成開(kāi)口,所述開(kāi)口露出所述電極和多個(gè)盲孔;
(4)在所述多個(gè)盲孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成導(dǎo)電孔;
(5)在所述絕緣層上形成導(dǎo)電層,所述導(dǎo)電層電連接所述電極和所述導(dǎo)電孔;
(6)在所述第一表面上覆蓋第二樹(shù)脂層;
(7)移除所述載體;
(8)沿著所述導(dǎo)電孔的寬度的中心進(jìn)行切割實(shí)現(xiàn)單體化,使得所述導(dǎo)電孔在側(cè)面露出。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,所述絕緣層為氧化硅或氮化硅。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,所述聚合物層或第二樹(shù)脂層為熱塑性樹(shù)脂材料、水溶性塑料。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于山東硯鼎電子科技有限公司,未經(jīng)山東硯鼎電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911292885.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





