[發明專利]一種石墨烯/多孔氧化鋅復合薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 201911292261.4 | 申請日: | 2019-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN110980797B | 公開(公告)日: | 2022-04-05 |
| 發明(設計)人: | 朱淼;謝偉;鄒長偉;項燕雄 | 申請(專利權)人: | 嶺南師范學院 |
| 主分類號: | C01G9/02 | 分類號: | C01G9/02;C01B32/184;H01G11/26;H01G11/32;H01G11/46;B01J23/06 |
| 代理公司: | 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228 | 代理人: | 李慧 |
| 地址: | 524000 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石墨 多孔 氧化鋅 復合 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種石墨烯/多孔氧化鋅復合薄膜的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)氧化石墨烯薄膜的制備:配制氧化石墨烯水分散液,置于真空抽濾裝置中抽濾形成氧化石墨烯薄膜,待干燥后從濾紙表面取下形成具有自支撐特性的氧化石墨烯薄膜;
(2)氧化石墨烯薄膜的預還原:將氧化石墨烯薄膜放置于烘箱中進行預還原,形成部分還原的氧化石墨烯薄膜;
(3)石墨烯/多孔氧化鋅復合薄膜制備:配制0.1mol/L的硝酸鋅水溶液,加入體積分數為4%的濃氨水,再將部分還原的氧化石墨烯薄膜置于水熱反應釜中,采用水熱反應法在薄膜表面生長多孔氧化鋅;反應過程中,氧化鋅將在部分還原的氧化石墨烯薄膜表面略微脫離薄膜主體的微區上優先形核、長大,借助這些氧化石墨烯微區的片狀形貌生長成為連片的多孔氧化鋅;
(4)后處理:薄膜的進一步還原,在多孔氧化鋅生長完成后,將負載有多孔氧化鋅的薄膜進一步還原至所需的還原程度,構建還原程度可調的石墨烯/多孔氧化鋅復合薄膜;
步驟(1)所述的形成具有支撐特性的氧化石墨烯薄膜可以通過將氧化石墨烯溶液旋涂于其他基底表面成膜;也可直接從市面上購買氧化石墨烯薄膜的商業化產品;
步驟(2)所述的氧化石墨烯薄膜進行預還原的溫度為60~100℃ ;
步驟(2)所述的氧化石墨烯薄膜進行預還原的時間為0.5~2 h;
步驟(3)所述的多孔氧化鋅的孔徑分布為50nm~1μm;
步驟(3)所述的水熱反應的溫度為70℃~85℃ ;
步驟(3)所述的水熱反應的時間為0.5~2 h。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于嶺南師范學院,未經嶺南師范學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911292261.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





