[發明專利]一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法

在審

• 申請號: 201911287400.4
• 申請日: 2019-12-14
• 公開（公告）號: CN110888171A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發明（設計）人: 黃永進;胡繞;朱黎明;王水強;劉伍;唐睿;吳鋒;張威
• 申請（專利權）人: 上海勘察設計研究院（集團）有限公司
• 主分類號: G01V3/08
• 分類號: G01V3/08;G01B7/00;G01B7/26;G01M3/40;E02D33/00
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 黃明凱

本發明公開了一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，涉及基坑圍護結構，包括以下步驟：在所述基坑圍護結構的一側土體中布設供電源、另一側土體中布設觀測電極,并在所述基坑圍護結構的任意一側土體中布設回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構所處一側的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上的滲漏隱患的平面位置和深度位置。本發明的優點是：該檢測方法對圍護結構本身不產生破壞，可保障基坑開挖安全，且檢測周期短、成本低、觀測數據為三維數據、檢測效率高、滲漏隱患定位精度高。

技術領域

本發明屬于基坑圍護結構檢測領域，具體涉及一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法。

背景技術

隨著社會經濟高速發展和城市化進程步伐的加快，各類高層建筑和地下工程的數量劇增，基坑數量也隨之增加。建設前述工程一般先澆筑圍護結構或止水帷幕作為基坑的支護結構，在基坑圍護結構施工完成后，由于勘察、設計、施工或其他意外等因素，經常會導致圍護結構在開挖時發生滲漏，一旦滲漏情況嚴重，會危及基坑工程本體和周邊管線、建筑物等設施的安全，造成重大經濟損失和不良社會影響。因此，迫切需要在基坑開挖前，采用有效的檢測手段提前判斷基坑圍護結構是否存在滲漏隱患，以便在開挖前對滲漏隱患處進行針對性的加固處理，避免基坑開挖時出現嚴重的滲漏，減少因基坑滲漏導致的各類次生災害和經濟損失。但目前缺少經濟、高效、無損、準確的基坑圍護結構滲漏隱患提前檢測方法。

發明內容

本發明的目的是根據上述現有技術的不足之處，提供一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，該檢測方法通過在基坑圍護結構外側（或內側）土體中單個深度或多個深度布置供電源，在基坑圍護結構兩側建立電流場，在基坑圍護結構內側（或外側）布置觀測電極，觀測基坑圍護結構內側（或外側）的電流場分布情況，進而判斷所述基坑圍護結構滲漏隱患的精確平面和深度位置。本發明能在基坑開挖前或開挖過程中，對基坑圍護結構提前進行滲漏隱患檢測。

本發明目的實現由以下技術方案完成：

一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，涉及基坑圍護結構，其特征在于所述檢測方法包括以下步驟：在所述基坑圍護結構的一側土體中布設供電源、另一側土體中布設觀測電極,并在所述基坑圍護結構的任意一側土體中布設回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構所處一側的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上的滲漏隱患的平面位置和深度位置

在所述基坑圍護結構的外側土體中布設所述供電源，在所述基坑圍護結構的內側土體中布設所述觀測電極，在所述基坑圍護結構的任意一側布設所述回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的內、外兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構的內側土體中的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上滲漏隱患的平面位置和深度位置。

在所述基坑圍護結構的內側土體中布設所述供電源，在所述基坑圍護結構的外側土體中布設所述觀測電極，在所述基坑圍護結構的任意一側布設所述回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的內、外兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構外側土體中的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上的滲漏隱患的平面位置和深度位置。

所述觀測電極、所述供電源以及所述回路電極分別同采集控制主機相連接。

若干所述觀測電極的布置形式為隨機點狀分布、線狀排列分布、網格狀陣列式分布中的一種或多種；任意兩個相鄰的所述觀測電極之間的間距為0.2~5m。