[發(fā)明專利]一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法

在審

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• 申請日: 2019-12-14
• 公開（公告）號: CN110888171A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設計）人: 黃永進;胡繞;朱黎明;王水強;劉伍;唐睿;吳鋒;張威
• 申請（專利權）人: 上海勘察設計研究院（集團）有限公司
• 主分類號: G01V3/08
• 分類號: G01V3/08;G01B7/00;G01B7/26;G01M3/40;E02D33/00
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 黃明凱

1.一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，涉及基坑圍護結構，其特征在于所述檢測方法包括以下步驟：在所述基坑圍護結構的一側土體中布設供電源、另一側土體中布設觀測電極,并在所述基坑圍護結構的任意一側土體中布設回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構所處一側的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上的滲漏隱患的平面位置和深度位置。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于在所述基坑圍護結構的外側土體中布設所述供電源，在所述基坑圍護結構的內側土體中布設所述觀測電極，在所述基坑圍護結構的任意一側布設所述回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的內、外兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構的內側土體中的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上滲漏隱患的平面位置和深度位置。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于在所述基坑圍護結構的內側土體中布設所述供電源，在所述基坑圍護結構的外側土體中布設所述觀測電極，在所述基坑圍護結構的任意一側布設所述回路電極，所述供電源與所述回路電極在所述基坑圍護結構的內、外兩側建立電流場，所述觀測電極觀測采集在所述基坑圍護結構外側土體中的電流場分布情況，通過所述電流場分布情況判斷所述基坑圍護結構上的滲漏隱患的平面位置和深度位置。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于所述觀測電極、所述供電源以及所述回路電極分別同采集控制主機相連接。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于若干所述觀測電極的布置形式為隨機點狀分布、線狀排列分布、網(wǎng)格狀陣列式分布中的一種或多種；任意兩個相鄰的所述觀測電極之間的間距為0.2-5m。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于使位于不同平面位置處的各所述觀測電極分別采集測量值，所述測量值為電位值、電位差值和電流值中的任意一個或多個，對比分析各所述觀測電極的所述測量值，若某處所述測量值為無滲漏隱患處測量值的3-120倍則判斷此處為滲漏隱患異常處，所述滲漏隱患異常處投影在所述基坑圍護結構上的點即為所述基坑圍護結構的滲漏隱患的平面位置。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于所述供電源由單個供電電極組成或由若干位于不同深度上的供電電極依次串聯(lián)組成。

8.根據(jù)權利要求7所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于所述供電源由單個供電電極放置于不同深度位置組成或若干位于不同深度上的供電電極依次串聯(lián)組成，所述供電源在不同深度進行供電，位于同一位置的所述觀測電極采集不同深度供電時的測量值，所述測量值為電位值、電位差值和電流值中的任意一個或多個，對比分析對應于不同供電深度時的所述測量值，若某個供電深度處的所述測量值為無滲漏隱患處測量值的3-120倍，則判斷所述供電深度為所述基坑圍護結構上滲漏隱患的深度位置。

9.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于所述供電源與所述基坑圍護結構邊界的垂直距離為0-15米。

10.根據(jù)權利要求1所述的一種基于電流場法的基坑圍護結構滲漏隱患檢測方法，其特征在于所述供電源的類型為直流電、交流電、偽隨機編碼電源中的一種。