[發(fā)明專利]一種去除外殼鍍鎳層氧化物的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911284694.5 | 申請(qǐng)日： | 2019-12-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111112787A | 公開（公告）日： | 2020-05-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 敖艷金;林政 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳市振華微電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B23K7/00 | 分類號(hào)： | B23K7/00;B23K3/08;C23G5/00 |
| 代理公司： | 深圳市智勝聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44368 | 代理人： | 張廣興 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 去除 外殼 鍍鎳層 氧化物 方法 | ||
1.一種去除外殼鍍鎳層氧化物的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1：將待還原的鍍鎳外殼擺放到真空焊接爐中，真空焊接爐抽真空至5mba；
步驟S2：真空焊接爐充進(jìn)純氮?dú)獾匠海俅螌⒄婵蘸附訝t抽真空至5mba；
步驟S3：氮?dú)饨?jīng)過甲酸液體并充進(jìn)真空焊接爐內(nèi)至常壓；
步驟S4：真空焊接爐升溫至200℃以上，同時(shí)真空焊接爐充進(jìn)經(jīng)過甲酸液體的氮?dú)猓?/p>
步驟S5：真空焊接爐保溫，同時(shí)真空焊接爐充進(jìn)經(jīng)過甲酸液體的氮?dú)猓?/p>
步驟S6：真空焊接爐降溫至45度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除外殼鍍鎳層氧化物的方法，其特征在于，步驟S3中的所述甲酸液體純度88％，氮?dú)饬髁繛?slm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除外殼鍍鎳層氧化物的方法，其特征在于，步驟S4中的所述甲酸液體純度88％，氮?dú)饬髁繛?slm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除外殼鍍鎳層氧化物的方法，其特征在于，步驟S5中的所述甲酸液體純度88％，氮?dú)饬髁繛?slm。
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