[發明專利]一種塞來昔布中氧化偶氮苯殘留檢測的方法

在審

• 申請號: 201911280143.1
• 申請日: 2019-12-13
• 公開（公告）號: CN112986407A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 楊鵬輝;袁和亮;盛媛媛
• 申請（專利權）人: 南京億華藥業有限公司
• 主分類號: G01N30/02
• 分類號: G01N30/02;G01N30/06;G01N30/34;G01N30/72
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本發明公開了一種塞來昔布中氧化偶氮苯雜質殘留檢測的LC?MS/MS方法，該方法采用反相C18柱，以甲醇?甲酸?乙酸銨為流動相，進行等梯度洗脫6min，柱溫40℃，流速為每分鐘0.65mL，柱后分流6:4進行LC?MS/MS測定；質譜條件為電噴霧正離子化(ESI⁺)測定噴口電壓4000V，霧化溫度100℃，吹掃氣壓力0.5psi，鞘氣壓力35psi，輔助氣壓力5psi，毛細管溫度350℃，碰撞氣氬氣壓力1.2mTorr。用于定量的[M+H]⁺離子反應監測如下：

Analyte	Exact mass	SRM	Collision Energy	Tube Lens
氧化偶氮苯	198.225	199.070→77.180	26	76

本方法可對塞來昔布中氧化偶氮苯雜質殘留進行快速準確的定性和定量分析，從而保證了塞來昔布的質量、提高臨床用藥的安全性。

技術領域

本發明屬于藥物分析領域，具體涉及一種塞來昔布中氧化偶氮苯雜質殘留檢測的LC-MS/MS方法。

背景技術

塞來昔布（Celecoxib），即4-[5-(4-甲基苯基)-3-(三氟甲基)-1H-吡唑-1-基]苯磺酰胺，其分子式為C₁₇H₁₄F₃N₃O₂S，分子量為381.38，pKa值為11.1。塞來昔布（Celecoxib）是美國西爾公司開發的第一個特異性環氧合酶-2（COX-2）抑制劑，用于骨關節炎和類風濕性關節炎的治療，是目前全球處方量最大的非甾體抗炎鎮痛藥。

基因毒性雜質是指能夠引起DNA突變、染色體斷裂或DNA重組的物質，這類物質還可能導致人類腫瘤的發生。基因毒性雜質主要來源于原料藥合成過程中的起始原料、中間體、試劑和反應副產物，此外，藥物在合成、儲存或制劑過程中也可能會降解產生基因毒性雜質。

塞來昔布的制備工藝以苯胺為原料合成，而苯胺由硝基苯還原而得，硝基苯在還原反應中易產生氧化偶氮苯，為關注隊列基因警示結構。塞來昔布原料藥生產過程中可能存在氧化偶氮苯雜質，該化合物結構與已知基因毒性雜質有類似性，需對其進行限度控制。塞來昔布最大日暴露量可達600mg，根據TTC（人體攝入量不得超過每人每天1.5μg）規定計算氧化偶氮苯限度為2.5ppm，因此我們建立了塞來昔布原料藥中氧化偶氮苯雜質殘留的LC-MS/MS方法，可以更好的控制塞來昔布原料藥的質量，更好地對塞來昔布原料藥中可能存在的氧化偶氮苯雜質進行檢測。。

發明內容