[發明專利]陣列基板、陣列基板的制備方法及顯示面板

在審

• 申請號: 201911240132.0
• 申請日: 2019-12-06
• 公開（公告）號: CN111081716A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 張鋒
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/77
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

柔性基板；

薄膜晶體管層，形成在所述柔性基板上，所述薄膜晶體管層包括無機層，所述薄膜晶體管層的上表面凹陷形成有貫穿所述無機層的凹孔；

平坦化層，形成在所述薄膜晶體管層上，所述平坦化層填充所述凹孔。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述柔性基板包括顯示區和可彎折區，所述凹孔位于所述顯示區和/或所述可彎折區。

3.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述薄膜晶體管層包括位于所述可彎折區內的金屬走線層，所述凹孔貫穿所述金屬走線層。

4.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述柔性基板包括柔性基層，及依次形成在所述柔性基層上的阻擋層和緩沖層，所述凹孔向下貫穿所述緩沖層和所述阻擋層。

5.如權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板，其特征在于，所述無機層包括層間介質層。

6.如權利要求1至4中任意一項所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括：

像素電極層，形成在所述平坦化層上；

像素定義層，形成在所述像素電極層和所述平坦化層上，所述像素定義層的上表面凸設有支撐柱，所述支撐柱與所述像素定義層一體設置。

7.一種陣列基板制備方法，其特征在于，所述方法包括：

提供柔性基板；

在所述柔性基板上形成薄膜晶體管層，所述薄膜晶體管層包括無機層；

在所述薄膜晶體管層的上表面形成貫穿所述無機層的凹孔；

在所述薄膜晶體管層上形成平坦化層，所述平坦化層填充所述凹孔。

8.如權利要求7所述的陣列基板制備方法，其特征在于，所述柔性基板包括柔性基層，及依次形成在所述柔性基層上的阻擋層和緩沖層，所述在所述薄膜晶體管層的上表面形成貫穿所述無機層的凹孔，包括：

在所述薄膜晶體管層的上表面形成貫穿所述無機層、所述緩沖層和所述阻擋層的凹孔。

9.如權利要求8所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述陣列基板的制備方法還包括：

在所述平坦化層上形成像素電極層，所述像素電極層包括像素電極；

所述像素電極和所述平坦化層上形成像素定義層；

通過半掩膜板在所述像素定義層上形成支撐柱和與所述像素電極對應的過孔。

10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括如權利要求1至6中任意一項所述的陣列基板。