[發明專利]阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光工藝及系統

在審

• 申請號: 201911232764.2
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN110806682A
• 公開（公告）日: 2020-02-18
• 發明（設計）人: 王瑞;徐珍華;杜衛沖
• 申請（專利權）人: 中山新諾科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京匯智勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11346
• 代理人: 石輝;趙立軍

1.一種阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光工藝，其特征在于，包括：

步驟1，將主光源與組合光源各自輸出的不同波長的光譜進行合光處理，獲得混合波長的組合光；其中，所述主光源輸出的光譜的波長為355nm和405nm，所述組合光源的光譜波長是根據阻焊油墨的特性在340nm至420nm范圍內確定，通過所述波長為355nm的光譜對所述阻焊油墨的表層進行固化，通過所述波長為405nm的光譜對所述阻焊油墨的內部深層進行固化，通過所述組合光源輸出的光對所述阻焊油墨的內部中層進行固化；所述合光處理具體包括：

步驟11，將所述主光源與所述組合光源輸出的光進行耦合處理；

步驟12，將步驟11耦合后得到的光進行勻光，得到近似平行的輸出光；

步驟13，將步驟12的輸出光進行整形，使其光斑的面積不小于數字微反射鏡的工作范圍；

步驟14，將步驟13的輸出光通過分光鏡改變方向后輸出；

步驟2，通過反射鏡，將步驟14獲得的所述組合光投射到所述數字微反射鏡上，經由所述數字微反射鏡進行圖形調制，并將數字信號轉化成光信號，再通過寬光譜成像系統在曝光板上進行成像；其中，成像過程中，從所述阻焊油墨表層開始、沿所述阻焊油墨的厚度方向直至深層均位于所述波長為355nm的光譜的焦深范圍內；

步驟3，根據所述曝光板反饋的位置信息，通過同步控制器觸發數字微反射鏡驅動板，驅動所述數字微反射鏡輸出圖像，所述數字微反射鏡將其微動鏡片的反轉脈沖信號通過所述數字微反射鏡驅動板輸送給光源控制板。

2.如權利要求1所述的阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光工藝，其特征在于，所述波長為355nm的光譜由355nm固體激光器輸出，所述波長為405nm的光譜由405nm半導體光源或405nm LED光源輸出，所述組合光源包括365nm LED光源、375nm半導體LD光源、375nm LED光源、385nm LED光源、395nm LED光源中的一種或多種的組合。

3.如權利要求1或2所述的阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光工藝，其特征在于，步驟1中的所述阻焊油墨為太陽PSR 2000-CE823型油墨時，所述組合光源為385nm波長LED光源。

4.如權利要求1或2所述的阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光工藝，其特征在于，步驟1中的所述阻焊油墨為容大H-8100型油墨時，所述組合光源為365nm波長LED光源。

5.一種阻焊線路一體曝光的多光譜數字化曝光系統，其特征在于，包括：

主光源，其輸出的光譜的波長為355nm和405nm；通過所述波長為355nm的光譜對所述阻焊油墨的表層進行固化，通過所述波長為405nm的光譜對所述阻焊油墨的內部深層進行固化；

組合光源，其輸出的光譜的波長是根據阻焊油墨的特性在340nm至420nm范圍內確定；通過所述組合光源輸出的光對所述阻焊油墨的內部中層進行固化；

合光組件，其用于將主光源與組合光源各自輸出的不同波長的光譜進行合光處理，獲得混合波長的組合光；其中，所述合光組件包括：

耦合件，其用于將所述主光源與所述組合光源輸出的光進行耦合處理；

勻光件，其用于將所述耦合件輸出的光進行勻光，得到近似平行的輸出光；和

聚焦整形鏡組，其用于將所述勻光件的輸出光進行整形，使其光斑的面積不小于數字微反射鏡的工作范圍；

反射鏡，其用于將所述合光組件中的所述分光鏡輸出的所述組合光投射到數字微反射鏡上，經由所述數字微反射鏡進行圖形調制，并將數字信號轉化成光信號，再通過寬光譜成像系統在曝光板上進行成像；成像過程中，從所述阻焊油墨表層開始、沿所述阻焊油墨的厚度方向直至深層均位于所述波長為355nm的光譜的焦深范圍內；

同步控制器，其用于根據所述曝光板反饋的位置信息，通過觸發數字微反射鏡驅動板，驅動所述數字微反射鏡輸出圖像，所述數字微反射鏡將其微動鏡片的反轉脈沖信號通過所述數字微反射鏡驅動板輸送給光源控制板。