[發明專利]目標圖像的生成方法、裝置和計算機可讀存儲介質

在審

• 申請號: 201911226438.0
• 申請日: 2019-12-04
• 公開（公告）號: CN111767774A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 林嘉;劉偲;高晨;朱德發;包仁達;李波;翁志;紀鴻燾;陳宇
• 申請（專利權）人: 北京沃東天駿信息技術有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08;G06T3/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張雷;許蓓

1.一種目標圖像的生成方法，包括：

根據殘差學習方法，利用生成模型確定待處理圖像的第一特征圖和注意力特征圖；

根據卷積處理方法，利用所述生成模型確定所述待處理圖像的第二特征圖；

根據所述第二特征圖和所述注意力特征圖，利用所述生成模型確定第三特征圖；

根據所述第三特征圖、所述第一特征圖和第一附加條件的特征信息，利用所述生成模型生成符合所述第一附加條件的第一目標圖像。

2.根據權利要求1所述的生成方法，其中，所述利用生成模型確定待處理圖像的第一特征圖和注意力特征圖包括：

根據所述第一附加條件，確定所述第一特征圖和所述注意力特征圖；

所述利用所述生成模型確定所述待處理圖像的第二特征圖包括：

根據所述第一附加條件，確定所述第二特征圖。

3.根據權利要求2所述的生成方法，其中，所述根據所述第一附加條件，確定所述第一特征圖和所述注意力特征圖包括：

利用條件實例正則化的方式在所述殘差學習方法中加入所述第一附加條件；

所述根據所述第一附加條件，確定所述第二特征圖包括：

利用條件實例正則化的方式在所述卷積處理方法中加入所述第一附加條件。

4.根據權利要求1所述的生成方法，其中，所述利用所述生成模型確定所述待處理圖像的第二特征圖包括：

分別對所述待處理圖像的各圖像區域進行卷積處理，以確定所述第二特征圖。

5.根據權利要求4所述的生成方法，其中，所述利用所述生成模型確定所述待處理圖像的第二特征圖包括：

利用條件實例正則化的方式，分別在所述待處理圖像的各圖像區域中加入所述第一附加條件的特征信息；

對加入了所述第一附加條件的特征信息的所述各圖像區域進行卷積處理，以確定所述第二特征圖。

6.根據權利要求4所述的生成方法，其中，

所述第一附加條件的特征信息為所述第一附加條件的特征圖；

所述利用所述生成模型生成符合所述第一附加條件的第一目標圖像包括：

將所述第三特征圖、所述第一特征圖和第一附加條件的特征圖融合為待處理數據；

根據所述待處理數據，生成所述第一目標圖像。

7.根據權利要求1所述的生成方法，其中，所述生成模型利用損失函數進行訓練，所述損失函數通過如下步驟確定：

根據第二附加條件，利用所述生成模型根據所述待處理圖像生成滿足所述第二附加條件的第二目標圖像；

根據第三附加條件，利用所述生成模型根據所述待處理圖像生成滿足所述第三附加條件的第三目標圖像；

根據第三附加條件，利用所述生成模型根據所述第二目標圖像生成滿足所述第三附加條件的第四目標圖像；

根據所述第四目標圖像與所述第三目標圖像的差異，以及所述待處理圖像與所述第一目標圖像的差異，確定所述損失函數。

8.根據權利要求1-7任一項所述的生成方法，其中，

所述生成模型利用目標函數進行訓練，直到所述目標函數達到最大值，所述目標函數以所述第一目標圖像為變量，與目標相似度正相關，與各真實相似度的和負相關，與各生成相似度的和負相關，

所述目標相似度為所述第一目標圖像與滿足所述第一附加條件的真實圖像的相似度，

所述真實相似度為所述第一目標圖像與滿足其他附加條件的真實圖像的相似度，

所述生成相似度為所述第一目標圖像與滿足所述第一附加條件和所述其他附加條件的生成圖像的相似度，所述生成圖像為所述生成模型根據附加條件生成的圖像。