[發明專利]版圖優化方法

有效

• 申請號: 201911193288.8
• 申請日: 2019-11-28
• 公開（公告）號: CN110929470B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發明（設計）人: 宋康;陳翰;張辰明
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

1.一種版圖優化方法，其特征在于，包括：

S11：輸入器件結構圖形，在所述器件結構圖形中加入多個亞分辨率輔助圖形形成版圖圖形；

S12：將所述版圖圖形拆分成多個區域；

S13：選取一個區域，獲得每個亞分辨率輔助圖形的坐標信息；

S14：建立亞分辨率輔助圖形的坐標信息與多個方向上的光強度的分布曲線；

S15：得到每個亞分辨率輔助圖形的寬度，同時獲得每個亞分辨率輔助圖形的主導因子；

S16：比對主導因子的大小，得到亞分辨率輔助圖形的寬度的最優尺寸；

S17：以最優尺寸的寬度對應的亞分辨率輔助圖形作為參考，將與所述最優尺寸的寬度對應的亞分辨率輔助圖形的相同光強度方向上的相同間距的其他亞分辨率輔助圖形的寬度進行擴大或縮小動作，使得其他亞分辨率輔助圖形的寬度與最優尺寸的寬度一致，得到優化后的亞分辨率輔助圖形；

S18：重復S13至S17步驟，直到所有區域都處理完；

S19：將多個區域的優化后的亞分辨率輔助圖形進行拼接；

S20：篩選尺寸小于設定值的優化后的亞分辨率輔助圖形，得到優化后的版圖圖形。

2.如權利要求1所述的版圖優化方法，其特征在于，對所述版圖圖形進行拆分，分成多個區域的方法包括：讀取器件結構圖形；讀取多個器件之間的距離；根據多個器件之間的距離和多個器件之間的亞分辨率輔助圖形的個數將版圖圖形分成多個區域。

3.如權利要求2所述的版圖優化方法，其特征在于，多個器件之間的直線距離為0.0385um-0.233um。

4.如權利要求3所述的版圖優化方法，其特征在于，建立亞分辨率輔助圖形的坐標信息與光強度的分布曲線：讀取以器件亞分辨率輔助圖形的坐標信息；以器件為中心向四周發散，獲得多個方向的光強度；將光強度與亞分辨率輔助圖形的坐標信息對應建立光強度分布曲線。

5.如權利要求4所述的版圖優化方法，其特征在于，以器件為中心向四周發散，獲得X軸或Y軸方向的光強度；將光強度與亞分辨率輔助圖形的坐標信息對應建立光強度分布曲線。

6.如權利要求5所述的版圖優化方法，其特征在于，獲得亞分辨率輔助圖形的主導因子的方法包括：在所述光強度分布曲線上找到半波點光強對數斜率，再除以亞分辨率輔助圖形的寬度。

7.如權利要求6所述的版圖優化方法，其特征在于，比對主導因子的大小，得到亞分辨率輔助圖形的寬度的最優尺寸的方法包括：主導因子的值最小，則其對應的亞分辨率輔助圖形的寬度為最優尺寸的寬度。

8.如權利要求7所述的版圖優化方法，其特征在于，擴大或縮小動作為多次。

9.如權利要求8所述的版圖優化方法，其特征在于，每次擴大或縮小的幅度為0.5nm。

10.如權利要求1所述的版圖優化方法，其特征在于，所述版圖圖形的尺寸小于1.5um*1.5um。