[發(fā)明專利]版圖優(yōu)化方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911193288.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110929470B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋康;陳翰;張辰明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F30/392 | 分類號(hào): | G06F30/392 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
| 地址: | 201315*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 版圖 優(yōu)化 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種版圖優(yōu)化方法,包括:加入多個(gè)亞分辨率輔助圖形形成版圖圖形;將版圖圖形拆分成多個(gè)區(qū)域;獲得每個(gè)亞分辨率輔助圖形的坐標(biāo)信息;建立亞分辨率輔助圖形的坐標(biāo)信息與多個(gè)方向上的光強(qiáng)度的分布曲線;得到每個(gè)亞分辨率輔助圖形的寬度,同時(shí)獲得每個(gè)亞分辨率輔助圖形的主導(dǎo)因子;得到亞分辨率輔助圖形的寬度的最優(yōu)尺寸;以最優(yōu)尺寸的寬度對(duì)應(yīng)的亞分辨率輔助圖形作為參考,將其他亞分辨率輔助圖形的寬度進(jìn)行擴(kuò)大或縮小動(dòng)作,得到優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形;將多個(gè)區(qū)域的優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形進(jìn)行拼接;篩選尺寸小于設(shè)定值的優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形,得到優(yōu)化后的版圖圖形。優(yōu)化了亞分辨率輔助圖形,最終優(yōu)化了版圖圖形。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種版圖優(yōu)化方法。
背景技術(shù)
目前常用的亞分辨率輔助圖形(SRAF)即為傳統(tǒng)的添加方法有兩種:Rule?based和Model?based,這里主要講述Model?based?SRAF,其計(jì)算出Machine?Learning(機(jī)器學(xué)習(xí))認(rèn)為最合理SRAF添加位置;SRAF寬度以及SRAF圖形之間的空間,但在實(shí)際添加過程中,版圖中各個(gè)目標(biāo)圖形所處的光學(xué)環(huán)境復(fù)雜,造成了許多雜亂無章的冗余輔助圖形,其在實(shí)際曝光中并沒有顯現(xiàn)出相應(yīng)的優(yōu)化效果,并且當(dāng)尺寸不合理時(shí),有可能造成額外印刷風(fēng)險(xiǎn),最終對(duì)后續(xù)光罩制作造成了極大的挑戰(zhàn)。
Rule?based?SRAF因其運(yùn)行時(shí)間短且容易掌控,應(yīng)用較為廣泛,然而環(huán)境較為復(fù)雜的2D圖形,Rule?based?SRAF需要做大量分批測(cè)試工作才可制定出合理的SRAF添加規(guī)則;然而Model?based?SRAF可以通過輔助框定SRAF生成位置,同時(shí)通過生成SRAF圖像。相比Rulebased?SRAF,Model?based?SRAF綜合考慮目標(biāo)圖形周圍的光學(xué)環(huán)境因素和可操作性運(yùn)算。Model?based?SRAF雖然有著自身的優(yōu)點(diǎn),但是它的缺點(diǎn)同樣明顯,其考慮目標(biāo)圖形光學(xué)方面影響因素,造成SRAF生成運(yùn)算耗時(shí)長。生成后的SRAF,存在無法制造的工藝問題,例如,尺寸太小且實(shí)際圖形增強(qiáng)效果不顯著。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種版圖優(yōu)化方法,可以優(yōu)化亞分辨率輔助圖形,最終優(yōu)化了版圖圖形,降低了版圖圖形復(fù)雜度,改善光罩的可制造性,最終達(dá)到工藝生產(chǎn)要求。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供了一種版圖優(yōu)化方法,包括:
S11:輸入器件結(jié)構(gòu)圖形,在所述器件結(jié)構(gòu)圖形中加入多個(gè)亞分辨率輔助圖形形成版圖圖形;
S12:將所述版圖圖形拆分成多個(gè)區(qū)域;
S13:選取一個(gè)區(qū)域,獲得每個(gè)亞分辨率輔助圖形的坐標(biāo)信息;
S14:建立亞分辨率輔助圖形的坐標(biāo)信息與多個(gè)方向上的光強(qiáng)度的分布曲線;
S15:得到每個(gè)亞分辨率輔助圖形的寬度,同時(shí)獲得每個(gè)亞分辨率輔助圖形的主導(dǎo)因子;
S16:比對(duì)主導(dǎo)因子的大小,得到亞分辨率輔助圖形的寬度的最優(yōu)尺寸;
S17:以最優(yōu)尺寸的寬度對(duì)應(yīng)的亞分辨率輔助圖形作為參考,將與所述最優(yōu)尺寸的寬度對(duì)應(yīng)的亞分辨率輔助圖形的相同光強(qiáng)度方向上的相同間距的其他亞分辨率輔助圖形的寬度進(jìn)行擴(kuò)大或縮小動(dòng)作,使得其他亞分辨率輔助圖形的寬度與最優(yōu)尺寸的寬度一致,得到優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形;
S18:重復(fù)S13至S17步驟,直到所有區(qū)域都處理完;
S19:將多個(gè)區(qū)域的優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形進(jìn)行拼接;
S20:篩選尺寸小于設(shè)定值的優(yōu)化后的亞分辨率輔助圖形,得到優(yōu)化后的版圖圖形。
可選的,在所述的版圖優(yōu)化方法中,所述對(duì)所述版圖圖形進(jìn)行拆分,分成多個(gè)區(qū)域的方法包括:讀取器件結(jié)構(gòu)圖形;讀取多個(gè)器件之間的距離;根據(jù)多個(gè)器件之間的距離和多個(gè)器件之間的亞分辨率輔助圖形的個(gè)數(shù)將版圖圖形分成多個(gè)區(qū)域。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海華力微電子有限公司,未經(jīng)上海華力微電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911193288.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 相變存儲(chǔ)器芯片版圖結(jié)構(gòu)
- 一種溫度補(bǔ)償時(shí)鐘芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種溫度補(bǔ)償時(shí)鐘芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種采用PNP晶體管實(shí)現(xiàn)的高精度測(cè)溫芯片版圖結(jié)構(gòu)
- 光掩膜數(shù)據(jù)檢測(cè)方法、監(jiān)測(cè)結(jié)構(gòu)以及掩膜版
- 一種高速SPI接口安全芯片的版圖結(jié)構(gòu)
- 一種高靈敏度大容量射頻標(biāo)簽芯片的版圖結(jié)構(gòu)及射頻標(biāo)簽芯片
- 一種高靈敏度大容量射頻標(biāo)簽芯片的版圖結(jié)構(gòu)及射頻標(biāo)簽芯片
- 一種環(huán)形壓控振蕩器的版圖結(jié)構(gòu)
- 遮光帶版圖繪制方法、光罩版圖繪制方法及光罩版圖
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





