[發(fā)明專利]一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝

在審

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• 申請日: 2019-11-28
• 公開（公告）號: CN110911527A
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設計）人: 陳早;管自生;侯成成;彭曉晨
• 申請（專利權）人: 南京納鑫新材料有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/02
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 石磊

1.一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于，具體步驟包括將多晶金剛線硅片經(jīng)黑硅槽式機，過常規(guī)的初拋去損傷層，沉銀挖孔，一步堿洗脫銀處理后，再通過所配強化酸洗溶液進行處理，處理后經(jīng)過擴孔，堿洗，酸洗，水洗，烘干，最后將制絨后的硅片，按照正常黑硅電池片生產(chǎn)工藝流程進行低壓擴散，鏈式背面刻蝕，PECVD鍍膜鈍化，絲網(wǎng)印刷和燒結(jié)，最終進行效率測試和EL在線檢測。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于：所述強力酸洗槽鹽酸體積分數(shù)最佳占地為10％～15％，雙氧水最佳占比為2％～5％，肌醇六磷酸等機磷酸類化合物最佳占比為0.05％～0.15％。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于：所述黑硅槽式機以每小時6000片產(chǎn)能的情況下，強力清洗的酸槽最佳工藝參數(shù)優(yōu)選為，浸泡清洗時間120～150s,溫度可以控制在常溫25度左右，且在以上條件下，可以有效的控制經(jīng)過強酸洗的硅片反射率在5.5～6.5，以6.0最佳。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于：所述黑硅槽式機以每小時7000片產(chǎn)能的情況下，強力清洗的酸槽最佳工藝參數(shù)優(yōu)選為，浸泡清洗時間90～120s,溫度需控制控制在40度左右，且在以上條件下，可以有效的控制經(jīng)過強酸洗的硅片反射率在5.5～6.5，以6.0最佳。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于：所述黑硅槽式機在正常穩(wěn)定生產(chǎn)的條件下，強力酸洗槽中各藥液試劑的過程補加，以鹽酸每批20～100ml/400pcs,雙氧水每批20～100ml/400pcs,肌醇六磷酸等機磷酸類化合物每批2～30g最佳。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種穩(wěn)定性高的多晶濕法黑硅制絨工藝，其特征在于：所述黑硅制絨完全結(jié)束后，整體制絨后減重控制在0.3～0.38g最佳，同時相應電池后道工序進行工藝匹配，擴散方阻不低100Ω，濕法刻蝕減重最佳控制0.13g。