[發明專利]微影制程的關鍵尺寸的監控結構在審
| 申請號： | 201911174109.6 | 申請日： | 2019-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN112951803A | 公開（公告）日： | 2021-06-11 |
| 發明（設計）人： | 王禮謙;劉丞祥;蔡孟弦 | 申請（專利權）人： | 華邦電子股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L23/544 | 分類號： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 羅英;劉芳 |
| 地址： | 中國臺灣臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 微影制程 關鍵 尺寸 監控 結構 | ||
1.一種微影制程的關鍵尺寸的監控結構，包括：
虛擬圖案層，包括虛擬圖案；以及
圖案化光致抗蝕劑層，包括位于所述虛擬圖案上方的至少一個監控標記，其中所述至少一個監控標記包括彼此相交的第一部分與第二部分，所述第一部分在第一方向延伸，所述第二部分在第二方向延伸，且所述第一方向與所述第二方向相交。
2.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述虛擬圖案包括所述虛擬圖案層的實體部分或所述虛擬圖案層中的開口。
3.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述虛擬圖案包括陣列圖案，且所述陣列圖案包括多個單元圖案。
4.根據權利要求3所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述多個單元圖案的長度相同。
5.根據權利要求3所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述多個單元圖案包括長度相同的部分與長度不同的部分。
6.根據權利要求3所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述陣列圖案包括水平線陣列，且所述水平線陣列中的所述多個單元圖案的延伸方向與所述第一方向平行。
7.根據權利要求3所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述陣列圖案包括垂直線陣列，且所述垂直線陣列中的所述多個單元圖案的延伸方向與所述第一方向垂直。
8.根據權利要求3所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述陣列圖案包括斜線陣列，且所述斜線陣列中的所述多個單元圖案的延伸方向以非正交的方式與所述第一方向相交。
9.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述虛擬圖案更包括襯墊圖案，所述襯墊圖案的尺寸大于所述至少一個監控標記的尺寸，所述至少一個監控標記位于所述襯墊圖案的正上方，且所述至少一個監控標記的投影完全落在所述襯墊圖案上。
10.根據權利要求9所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述襯墊圖案與所述至少一個監控標記具有相同的形狀。
11.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述至少一個監控標記的形狀包括十字形或L形。
12.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述至少一個監控標記包括所述圖案化光致抗蝕劑層的實體部分或所述圖案化光致抗蝕劑層中的開口。
13.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述至少一個監控標記的數量為多個，所述多個監控標記的所述多個第一部分彼此平行，且所述多個監控標記的所述多個第二部分彼此平行。
14.根據權利要求1所述的微影制程的關鍵尺寸的監控結構，其中所述第一方向與所述第二方向垂直相交。
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