[發(fā)明專利]顯示面板的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911167708.5
• 申請(qǐng)日: 2019-11-25
• 公開（公告）號(hào): CN110931528A
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡泉;李松杉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 何輝

本發(fā)明提供一種顯示面板的制備方法，該顯示面板的制備方法通過(guò)在刻蝕顯示面板時(shí)先在顯示面板上形成氧化物層和光刻膠層，然后分別在異形切割區(qū)對(duì)氧化物層和光刻膠層進(jìn)行刻蝕和曝光顯影形成第二光刻圖案和第一光刻圖案，由于氧化物層和光刻膠層貼合設(shè)置，使得在形成第二光刻圖案時(shí)，可依據(jù)第一光刻圖案的位置刻蝕氧化物層形成第二光刻圖案，從而使得第一光刻圖案與第二光刻圖案重合，進(jìn)而在依次對(duì)薄膜晶體管和襯底進(jìn)行刻蝕時(shí)，在異形切割區(qū)的薄膜晶體管和襯底上的圖案的圓心重合或者圖案的中心重合，解決了現(xiàn)有顯示面板的制備方法存在刻蝕形成的過(guò)孔位置不準(zhǔn)確，導(dǎo)致后續(xù)封裝不良的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種顯示面板的制備方法。

背景技術(shù)

如圖1所示，在現(xiàn)有顯示面板的制備過(guò)程中，對(duì)顯示面板進(jìn)行兩次刻蝕，第一次采用光刻膠保護(hù)后，對(duì)緩沖層和層間絕緣層等無(wú)機(jī)膜層進(jìn)行刻蝕，第二次使用光刻膠保護(hù)后，對(duì)襯底進(jìn)行刻蝕，但由于兩次刻蝕時(shí)，光刻膠需要分別對(duì)位，而兩次對(duì)位不準(zhǔn)確會(huì)導(dǎo)致無(wú)機(jī)膜層和襯底形成的過(guò)孔不是同心圓，從而在后續(xù)過(guò)程中導(dǎo)致封裝不良。

所以，現(xiàn)有顯示面板的制備方法存在刻蝕形成的過(guò)孔位置不準(zhǔn)確，導(dǎo)致后續(xù)封裝不良的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種顯示面板的制備方法，用于解決現(xiàn)有顯示面板的制備方法存在刻蝕形成的過(guò)孔位置不準(zhǔn)確，導(dǎo)致后續(xù)封裝不良的技術(shù)問(wèn)題。

為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下：

本發(fā)明提供一種顯示面板的制備方法，該顯示面板的制備方法包括：

提供顯示面板，所述顯示面板包括襯底、薄膜晶體管、平坦化層、發(fā)光層和像素定義層，所述顯示面板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述非顯示區(qū)包括異形切割區(qū)；

在所述像素定義層上形成氧化物層；

在所述氧化物層上形成光刻膠層；

在所述異形切割區(qū)對(duì)所述光刻膠層曝光顯影形成第一光刻圖案；

在對(duì)應(yīng)光刻膠層的第一光刻圖案的區(qū)域，對(duì)所述氧化物層刻蝕形成所述第二光刻圖案，所述第一光刻圖案與所述第二光刻圖案相同，且所述第一光刻圖案與所述第二光刻圖案在襯底上的投影重合；

在對(duì)應(yīng)光刻膠層的第一光刻圖案的區(qū)域，對(duì)薄膜晶體管進(jìn)行干刻形成第一圖案；

在對(duì)應(yīng)光刻膠層的第一光刻圖案的區(qū)域，對(duì)襯底進(jìn)行干刻形成第二圖案；

剝離所述氧化物層和光刻膠層。

在本發(fā)明提供的顯示面板的制備方法中，所述提供所述顯示面板的步驟包括：

提供襯底；

在所述襯底上形成薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管上形成平坦化層，所述平坦化層在異形切割區(qū)形成有第一過(guò)孔；

在所述平坦化層上形成像素定義層；所述像素定義層在異形切割區(qū)形成有第二過(guò)孔，所述第一過(guò)孔在襯底上的投影位于所述第二過(guò)孔內(nèi)；

在像素定義層定義出的像素區(qū)域內(nèi)形成發(fā)光層。

在本發(fā)明提供的顯示面板的制備方法中，所述在所述像素定義層上形成氧化物層的步驟包括：在所述像素定義層上沉積銦鋅氧化物，所述銦鋅氧化物覆蓋在所述像素定義層、發(fā)光層、平坦化層和薄膜晶體管層上形成氧化物層，所述氧化物層與所述像素定義層、平坦化層和薄膜晶體管層的接觸面呈階梯狀。

在本發(fā)明提供的顯示面板的制備方法中，所述在所述異形切割區(qū)對(duì)所述光刻膠層曝光顯影形成第一光刻圖案的步驟包括：

定位第一過(guò)孔的位置；